[发明专利]一种含有C60稠环的有机光电材料及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 201910322526.4 申请日: 2019-04-22
公开(公告)号: CN111825600A 公开(公告)日: 2020-10-27
发明(设计)人: 俞云海;谭奇;张晓龙 申请(专利权)人: 上海和辉光电有限公司
主分类号: C07D209/94 分类号: C07D209/94;C09K11/06;H01L51/50;H01L51/54
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 巩克栋
地址: 201506 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 含有 c60 有机 光电 材料 及其 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种含有C60稠环的有机光电材料,其特征在于,所述含有C60稠环的有机光电材料具有如式I所示结构:

其中,R1-R6各自独立地选自氢、卤素、氰基、硝基、磺酸基、羧基、羰基、醛基、酰基、叔胺正离子、取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的杂芳基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的烯基、炔基或异氰基中的一种,且R1-R6不同时为氢。

2.根据权利要求1所述的含有C60稠环的有机光电材料,其特征在于,所述取代或未取代的烷基为取代或未取代的C1~C10直链烷基或支链烷基;

优选地,所述卤素为F、Cl、Br或I;

优选地,所述取代或未取代的芳基为取代或未取代的C6~C30芳基;

优选地,所述取代或未取代的杂芳基为取代或未取代的C3~C30杂芳基;

优选地,所述取代或未取代的环烷基为取代或未取代的C3~C30环烷基;

优选地,所述取代的烷基、取代的芳基、取代的杂芳基、取代的环烷基、取代的烯基中的取代基为F、Cl、Br、I、氰基、三氟甲基、磺酸基、硝基、羧基、羰基、醛基、叔胺正离子、烷氧基或芳氧基;

优选地,所述R1-R6各自独立地选自氟取代的苯基、氯取代的苯基、三氟甲基取代的苯基、氰基取代的苯基、苯基、三氟甲基、三氯甲基、甲基、乙基、氟取代的乙基、氯取代的乙基、氰基取代的乙基、二氰基取代的乙烯基、氰基取代的烷氧基、氰基取代的芳氧基、氟取代的烷氧基或氟取代的芳氧基中的一种;

优选地,所述R1-R6中至少含有一个F、Cl、Br、I、氰基、三氟甲基、三氯甲基、氟取代的乙基、氯取代的乙基、氰基取代的乙基、氰基取代的苯基、氟取代的苯基、氯取代的苯基、三氟甲基取代的苯基、二氰基取代的乙烯基、氰基取代的烷氧基、氰基取代的芳氧基、氟取代的烷氧基、氟取代的芳氧基、磺酸基、硝基、羧基、羰基、醛基、酰基或叔胺正离子中的一种。

3.根据权利要求1或2所述的含有C60稠环的有机光电材料,其特征在于,所述含有C60稠环的有机光电材料为如下化合物1~8中的任意一种或至少两种的组合:

4.一种如权利要求1~3任一项所述的含有C60稠环的有机光电材料的制备方法,其特征在于,所述制备方法为:式II所示富勒烯与式III所示化合物在氧化偶联剂存在下发生反应,得到式I所示含有C60稠环的有机光电材料,反应式如下:

其中,R1-R6各自独立地选自氢、卤素、氰基、硝基、磺酸基、羧基、羰基、醛基、酰基、叔胺正离子、取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的杂芳基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的烯基、炔基或异氰基中的一种,且R1-R6不同时为氢。

5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述式II所示富勒烯与式III所示化合物的摩尔比为1:(1.8~2.4),优选为1:2;

优选地,所述氧化偶联剂与式II所示富勒烯的摩尔比为(0.5~1):1,进一步优选为0.7:1;

优选地,所述氧化偶联剂为2,3-二氯-5,6-二氰对苯醌。

6.根据权利要求4或5所述的制备方法,其特征在于,所述反应在有机溶剂中进行;

优选地,所述有机溶剂为甲苯、苯、氯苯、溴苯、二甲苯中的任意一种或至少两种的组合,进一步优选为氯苯;

优选地,所述反应的温度为100~150℃,进一步优选为120℃;

优选地,所述反应的时间为6~15小时,进一步优选为10小时。

7.一种OLED器件用空穴注入层,其特征在于,所述空穴注入层包括主体材料和客体材料,所述客体材料为如权利要求1~3任一项所述的含有C60稠环的有机光电材料。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海和辉光电有限公司,未经上海和辉光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910322526.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top