[发明专利]具有双传输零点和宽阻带的ISGW宽频带通滤波器在审
申请号: | 201910322576.2 | 申请日: | 2019-04-22 |
公开(公告)号: | CN109994806A | 公开(公告)日: | 2019-07-09 |
发明(设计)人: | 申东娅;杨杰 | 申请(专利权)人: | 云南大学 |
主分类号: | H01P1/203 | 分类号: | H01P1/203 |
代理公司: | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人: | 胡川 |
地址: | 650091 云*** | 国省代码: | 云南;53 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 覆铜层 上层介质板 下层介质板 印刷 圆形金属贴片 通滤波器 宽频带 上表面 双传输 下表面 金属 阻带 馈电微带线 人工磁导体 周期性排列 高集成度 间隔介质 结构稳定 空间辐射 滤波功能 有效抑制 阻抗匹配 接地 渐变线 | ||
1.一种具有双传输零点和宽阻带的ISGW宽频带通滤波器,其特征在于,包括上层介质板(1)、下层介质板(3)以及设置在所述上层介质板(1)和下层介质板(3)之间的间隔介质板(2);
所述上层介质板(1)的上表面印刷有第一敷铜层(11),所述上层介质板(1)的下表面印刷有三行周期性排列的圆形金属贴片(12),每一所述圆形金属贴片(12)上设有贯穿上层介质板(1)的第一金属过孔(13),所述圆形金属贴片(12)的排列方向与三维参考坐标系中的Y轴平行;
所述下层介质板(3)的上表面印刷有第二敷铜层(31)、连接第二敷铜层(31)两侧的过渡渐变线(32)以及与过渡渐变线(32)连接的馈电微带线(33),所述第二敷铜层(31)的两侧边缘设有贯穿下层介质板(3)的周期性排列的第二金属过孔(34),所述第二敷铜层(31)的中部设有贯穿下层介质板(3)的周期性排列的第三金属过孔(35),所述第二金属过孔(34)和第三金属过孔(35)的排列方向与Y轴平行,所述第二敷铜层(31)上设有一对第一U型缝隙(36)、一对第二U型缝隙(37)和一对第三U型缝隙(38),所述第一U型缝隙(36)、第二U型缝隙(37)和第三U型缝隙(38)沿与Y轴平行的方向间隔设置,并且所述一对第一U型缝隙(36)、一对第二U型缝隙(37)和一对第三U型缝隙(38)均关于所述第二敷铜层(31)X轴方向上的中心线对称;所述下层介质板(3)的下表面印刷有第三敷铜层(39);
其中,所述过渡渐变线(32)的宽度从与馈电微带线(33)连接的一侧到另一侧逐渐变大。
2.根据权利要求1所述的具有双传输零点和宽阻带的ISGW宽频带通滤波器,其特征在于,所述第三U型缝隙(38)、第二U型缝隙(37)、第一U型缝隙(36)与第二敷铜层(31)X轴方向上的中心线的间距依次增大。
3.根据权利要求2所述的具有双传输零点和宽阻带的ISGW宽频带通滤波器,其特征在于,所述中间的一行圆形金属贴片(12)位于所述上层介质板(1)Y轴方向上的中心线上。
4.根据权利要求1所述的具有双传输零点和宽阻带的ISGW宽频带通滤波器,其特征在于,所述第三金属过孔(35)位于所述第二敷铜层(31)Y轴方向上的中心线上。
5.根据权利要求1所述的具有双传输零点和宽阻带的ISGW宽频带通滤波器,其特征在于,所述上层介质板(1)的介电常数高于间隔介质板(2)和下层介质板(3),所述间隔介质板(2)和下层介质板(3)的介电常数相同。
6.根据权利要求5所述的具有双传输零点和宽阻带的ISGW宽频带通滤波器,其特征在于,所述上层介质板(1)采用FR4板材,厚度1.6mm,所述间隔介质板(2)和下层介质板(3)采用Rogers4003C板材,厚度分别为0.203mm和0.304mm。
7.根据权利要求6所述的具有双传输零点和宽阻带的ISGW宽频带通滤波器,其特征在于,所述上层介质板(1)、下层介质板(3)和间隔介质板(2)粘合在一起或通过螺钉固定在一起。
8.根据权利要求7所述的具有双传输零点和宽阻带的ISGW宽频带通滤波器,其特征在于,所述上层介质板(1)的长度和宽度与间隔介质板(2)的长度和宽度相同。
9.根据权利要求8所述的具有双传输零点和宽阻带的ISGW宽频带通滤波器,其特征在于,所述上层介质板(1)的厚度大于间隔介质板(2)的厚度。
10.根据权利要求9所述的具有双传输零点和宽阻带的ISGW宽频带通滤波器,其特征在于,所述下层介质板(3)的宽度与上层介质板(1)和间隔介质板(2)的宽度相同,所述下层介质板(3)的长度大于上层介质板(1)和间隔介质板(2)的长度,以裸露出所述过渡渐变线(32)和馈电微带线(33)。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于云南大学,未经云南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910322576.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。