[发明专利]废气等离子体处理设备和包括其的废气等离子体处理系统

说明书

公开了使用焰炬等离子体的废气等离子体处理设备和系统。该设备采用工作气体供应管与腔室的壁之间以及工作气体供应管与废气进气管之间的热交换构造，以利用在等离子体腔室中产生的热来预热工作气体、废气和废气进气管。此外，围绕腔室的壁的外壳在它们之间提供废气混合空间，以使废气混合并将混合后的气体置于腔室的处理空间中。设备可作为小型化的POU设备连接到半导体制造设施的每个处理单元，并且湿式洗涤器可布置在其下游位置中以有效地处理包括温室气体的废气。

技术领域

本发明涉及一种温室气体处理系统，更具体地，涉及一种能够有效地处理从半导体制造工艺中产生的废气的废气等离子体处理设备和系统。

背景技术

由于工业的发展，工业领域中产生的污染物质增多，并且大气环境迅速恶化。由于经济发展的快速工业扩张政策，宽松的监管不可避免，但近年来，正在付出诸如粉尘和全球变暖的严重代价。

作为减轻环境污染的措施，近年来，IT产业制造商已经采用了规范污染物排放总量的排放总量规程，并且已经大大强化了公差标准。因此，每个制造商已经设定了气体和颗粒污染物接近零排放的目标，并且正在努力开发和建造新的废气处理设备和系统。例如，除了努力改善现有污染物的处理效率之外，还针对作为新的监管项目增加的新的污染物引入了新的设备或系统。

确实，用于处理污染物的工艺和设备正变得越来越重要，但是在工业领域中，存在废气处理仍然是生产工艺中附带的问题的限制。此外，在已经安装并运行的工业现场的设施布局中，难以对用于处理污染物的设备或设施进行改造或者引入用于处理污染物的设备或设施。特别地，由于传统的废气处理系统将污染物收集到一个地方并同时采用大型设施对它们所有进行一次性处理，因此，为了改造这样的设备和系统或者添加新的设备和系统，在空间方面存在限制，这需要花费大量的成本。

因此，需要新的设备和系统，该新的设备和系统使占用面积最小化同时增大处理效率，并且进一步减少由于处理而引起的能耗。

【现有技术文件】

韩国专利公开文本10-2007-0075770

发明内容

【所要解决的技术问题】

本发明是针对现有技术的上述问题而进行的，并且提供了一种对目标气体具有高处理效率以及低能耗的废气等离子体处理设备。

本发明还提供了一种废气等离子体处理设备，该废气等离子体处理设备一体地包含真空泵和等离子体处理元件，从而以POU(用户点)型设备连接到每个半导体制造工艺设施。

本发明提供了一种废气等离子体处理系统，该废气等离子体处理系统包括多个上述废气等离子体处理设备和一个用于处理从废气等离子体处理设备传送的废气的湿式洗涤器。

【解决技术问题的手段】

本发明提供了一种废气等离子体处理设备，所述废气等离子体处理设备包括：腔室，具有由壁形成的废气的处理空间；焰炬，被安装为产生用于处理腔室的处理空间中的废气的火焰；以及工作气体供应单元，具有工作气体供应管以将工作气体供应到焰炬，其中，工作气体供应管被安装为围绕腔室的壁至少一次，从而与腔室的壁进行热交换。

工作气体可以为N₂。

所述设备还可以包括用于输送将在腔室的处理空间中被处理的废气的废气进气管，其中，工作气体供应管被安装为在与腔室的壁进行热交换之后与废气进气管执行热交换。

所述设备还可以包括用于在废气进气管的周向表面上提供封闭空间的换热套，其中，工作气体供应管被安装为使得工作气体的路径穿过换热套的封闭空间的内部。