[发明专利]一种用于晶圆生产离子注入的控制装置

说明书

本发明公开了一种用于晶圆生产离子注入的控制装置，其结构包括活动道、衔接操作头、离子校对输出口、护环，活动道安装于衔接操作头内部，离子校对输出口包括校对口杆、直射道、完整卡扣、灵活压球、整体囊、隔层、定向顶杆，当离子注入口受到损坏时，其前者将会掉落，后者主杆将会往下滑动，由空格受力将其回力镖撑开，其滑润层辅助其边角往两侧滑动，当回力镖被撑开的同时，折弯限向杆将会被挤压，其卡勾与固定柱之间的定位，其顶壳将对整体囊进行推动，整体囊内部的外压弧将受到力，使其能够顶在新的主杆表面，对其进行固定，能够在离子校对直射的口受到损坏时，及时的补上备用，以防操作的过程中有所失误，这次操作结束后在对其进行检修。

技术领域

本发明属于半导体领域，更具体地说，尤其是涉及到一种用于晶圆生产离子注入的控制装置。

背景技术

晶圆生产的过程中有一步程序是需要将离子注入，其离子是通过内部加速后，位于垂直方向通过输出口对照相对应的位置，直射于晶圆表面上，在持续下序的变化，其离子在加速直射的过程中会产生一定的热量。

基于上述本发明人发现，现有的晶圆生产离子注入控制装置主要存在以下几点不足，比如：

由于离子注入直射存在有一定的热度，当长时间通过聚焦的输出口快速输出时，输出口会有所损坏，从而容易造成离子输出时分散，难以直射到相对应的位置。

因此需要提出一种用于晶圆生产离子注入的控制装置。

发明内容

为了解决上述技术由于离子注入直射存在有一定的热度，当长时间通过聚焦的输出口快速输出时，输出口会有所损坏，从而容易造成离子输出时分散，难以直射到相对应的位置的问题。

本发明一种用于晶圆生产离子注入的控制装置的目的与功效，由以下具体技术手段所达成：

其结构包括活动道、衔接操作头、离子校对输出口、护环。

所述活动道安装于衔接操作头内部，所述衔接操作头底端与离子校对输出口顶端相连接，所述护环嵌套于离子校对输出口外表面且位于同一轴心上。

所述离子校对输出口包括校对口杆、直射道、完整卡扣、灵活压球、整体囊、隔层、定向顶杆，所述校对口杆位于直射道左右两侧，所述完整卡扣与隔层为一体化结构，所述灵活压球位于整体囊内部，所述定向顶杆设有两个。

作为本发明的进一步改进，所述校对口杆包括重力倾向块、顺滑层、卡位槽、耐磨底、缓冲角、主杆，所述重力倾向块安装于主杆内部，所述顺滑层与主杆为一体化结构，所述卡位槽安装于缓冲角与耐磨底之间，所述重力倾向块呈水滴状结构。

作为本发明的进一步改进，所述缓冲角包括滑润层、缓冲球、回折条、回力镖、空格，所述滑润层设有两个，所述缓冲球与回力镖相连接，所述回折条位于回力镖外表面，所述回折条安装于空格内部，所述缓冲球为球体结构，所述回折条设有两个。

作为本发明的进一步改进，所述回折条包括软条、耐压夹角、折弯限向杆，所述折弯限向杆安装于软条内部，所述耐压夹角嵌入于软条内部，所述折弯限向杆设有两个。

作为本发明的进一步改进，所述定向顶杆包括顶壳、稳定三角、固定柱、卡勾、稳固杆，所述顶壳与稳固杆相连接，所述稳定三角嵌入于稳固杆内部，所述卡勾卡于固定柱内部，所述固定柱呈圆柱体结构。

作为本发明的进一步改进，所述稳定三角包括三角条、顶角、实芯，所述实芯嵌入于三角条内部，所述三角条与顶角相连接，所述三角条设有三个，所述实芯为圆柱体结构。

作为本发明的进一步改进，所述灵活压球包括中撑层、外压弧、内囊、限位角，所述限位角安装于中撑层内壁，所述内囊位于限位角内部，所述中撑层远离限位角的一端与外压弧相连接，所述限位角呈圆形均匀分布，所述外压弧为半弧形结构。

与现有技术相比，本发明具有如下有益效果：