[发明专利]一种涂布均恒的量子点的涂布方法在审

专利信息
申请号: 201910328549.6 申请日: 2019-04-23
公开(公告)号: CN110170441A 公开(公告)日: 2019-08-27
发明(设计)人: 潘中海;李杰 申请(专利权)人: 天津宝兴威科技股份有限公司
主分类号: B05D7/24 分类号: B05D7/24;B05D3/02;C09D5/22;C09D183/04;C09D175/04;C09D133/04
代理公司: 天津市新天方专利代理有限责任公司 12104 代理人: 张强
地址: 301800 天津*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 量子点 上胶 基材 逗号刮刀 胶水 涂布辊 热溶胶 光辊 圆柱形辊轴 氮气保护 方向相反 间隙控制 涂布不均 涂布方式 涂布工艺 涂布装置 研磨 混合液 控制层 刮胶 烘道 烘干 涂胶 钛矿 转动 过滤 移动 优化
【说明书】:

发明是一种涂布均恒的量子点的涂布方法,其步骤如下:制得混合液;降至室温过滤即得钛矿类型量子点;在氮气保护下研磨,制成量子点胶水;涂布辊转动的方向与基材前进的方向相反;采用热溶胶喷挤上胶和光辊上胶相结合的方式上胶;通过逗号刮刀与涂布辊之间的间隙控制涂层厚度;通过基材在涂布装置的移动将胶水均匀的涂布在基材上,并进入烘道烘干。本发明采用逗号刮刀涂布方式对基材进行涂胶,采用热溶胶喷挤上胶和光辊上胶相结合的方式进行均匀上胶,通过控制逗号刮刀与涂布辊之间的间隙来胶控制层厚度和量子点胶水刮胶速度,优化了涂布工艺,避免了采用圆柱形辊轴进行量子点液的涂布不均恒的问题,进而改善了产品质量。

技术领域

本发明涉及量子点涂布技术领域,尤其涉及一种涂布均恒的量子点的涂布方法。

背景技术

量子点是一种纳米级别的半导体,通过对这种纳米半导体材料施加一定的电场或光压,它们便会发出特定频率的光,而发出的光的频率会随着这种半导体的尺寸的改变而变化,因而通过调节这种纳米半导体的尺寸就可以控制其发出的光的颜色。量子点的应用一般需要将量子点涂布于基材表面。然而,当前现有技术中,量子点涂布时通常采用圆柱形辊轴进行量子点液的涂布,存在涂布不均恒的问题,从而降低了产品质量。

发明内容

本发明旨在解决现有技术的不足,而提供一种涂布均恒的量子点的涂布方法。

本发明为实现上述目的,采用以下技术方案:

一种涂布均恒的量子点的涂布方法,其特征在于,其步骤如下:

(1)按重量份数将6-9份二氧化钛加入30-45份的乙醇溶液中,并在超声仪中进行超声分散2-6h,制得混合液;

(2)向步骤(1)中分别加入3-4重量份的硝酸银和2-3重量份的乙二胺,通过水热反应釜,在140-180℃中保持10-14h,降至室温过滤即得钛矿类型量子点;

(3)按重量份数将3-5份步骤(2)中制得的钛矿类型量子点和10-15份的胶水加入胶体磨中,在氮气保护下研磨,研磨2-4h后,制成量子点胶水;

(4)采用逗号刮刀涂布方式,将基材放卷,经过导辊输送到逗号刮刀涂布装置,涂布辊转动的方向与基材前进的方向相反;

(5)采用热溶胶喷挤上胶和光辊上胶相结合的方式进行均匀上胶;

(6)通过逗号刮刀与涂布辊之间的间隙控制涂层厚度在0.01-0.04mm,刮胶速度为5-8m/s;

(7)通过基材在涂布装置的移动将胶水均匀的涂布在基材上,并进入烘道烘干。

作为优选,所述步骤(1)中二氧化钛的粒径范围为100-200nm。

作为优选,所述步骤(3)中的胶水采用有机硅类、聚氨酯类、丙烯酸酯类或环氧类中的任意一种。

作为优选,所述步骤(3)中胶体磨的研磨转速为400-600rpm。

作为优选,所述步骤(7)中基材烘干的温度为40-43℃。

本发明的有益效果是:本发明提供一种涂布均恒的量子点的涂布方法,采用逗号刮刀涂布方式对基材进行涂胶,采用热溶胶喷挤上胶和光辊上胶相结合的方式进行均匀上胶,通过控制逗号刮刀与涂布辊之间的间隙来胶控制层厚度和量子点胶水刮胶速度,优化了涂布工艺,避免了采用圆柱形辊轴进行量子点液的涂布不均恒的问题,进而改善了产品质量。

具体实施方式

下面结合实施例对本发明作进一步说明:

一种涂布均恒的量子点的涂布方法,其特征在于,其步骤如下:

(1)按重量份数将6-9份二氧化钛加入30-45份的乙醇溶液中,并在超声仪中进行超声分散2-6h,制得混合液;

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