[发明专利]图形处理系统和在图形处理系统中处理基元的方法有效

专利信息
申请号: 201910328773.5 申请日: 2014-12-12
公开(公告)号: CN110097621B 公开(公告)日: 2023-07-18
发明(设计)人: J·里德肖 申请(专利权)人: 想象技术有限公司
主分类号: G06T15/00 分类号: G06T15/00;G06T15/04;G06T1/60;G06V10/764
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 党晓林;师玮
地址: 英国赫*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 图形 处理 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种图形处理系统,包括:

处理模块,其被配置为针对瓦片的基元执行隐藏面消除,以确定标识在所述瓦片中的多个样本位置中的每个样本位置处可见的所述基元的基元标识符;

两个或更多标签缓冲器的集合,其被配置为存储针对所述瓦片中的所述多个样本位置中的每个样本位置确定的所述基元标识符,其中在所述集合的所述标签缓冲器中相对应的样本位置处所存储的基元标识符表示基元的重叠的层;

标签控制模块,其被配置为控制:(i)从所述两个或更多个标签缓冲器的集合中选择用于存储所述基元标识符中的每个基元标识符的标签缓冲器,其中对标签缓冲器的选择根据存储于所述标签缓冲器中的、由所述基元标识符所标识的所述基元的分层而进行;以及(ii)从所述标签缓冲器的集合中的一个或多个标签缓冲器冲刷所述基元标识符以输出至一个或多个处理引擎;

所述一个或多个处理引擎,其被配置为对由所输出的基元标识符所标识的所述基元的片段应用纹理化和阴影化。

2.根据权利要求1所述的图形处理系统,其中所述处理模块被配置为处理具有多个瓦片的渲染空间中的瓦片的基元,并且其中所述处理模块被配置为具有多个在给定时间的处理中瓦片。

3.根据权利要求2所述的图形处理系统,所述图形处理系统被配置为在特定瓦片的一些、但不是所有的基元已经完成由所述处理模块处理时,允许由所述处理模块对所述基元进行处理以在不同瓦片的基元之间进行切换。

4.根据权利要求2所述的图形处理系统,进一步包括多个深度缓冲器,其中所述深度缓冲器中的每个深度缓冲器被配置为与所述标签缓冲器的集合中的一个或多个标签缓冲器动态地相关联。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的图形处理系统,其中所述标签控制模块被配置为控制基元标识符从标签缓冲器的所述集合中的一个或多个标签缓冲器的冲刷,其中所冲刷的所述基元标识符被提供至所述一个或多个处理引擎中的一个或多个处理引擎。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的图形处理系统,其中所述标签控制模块被配置为针对一个或多个样本位置的块来控制对标签缓冲器的所述选择,以由此针对一个或多个样本位置的所述块,来选择对应于所述重叠的层的最远可用层的所述标签缓冲器。

7.根据权利要求1至4中任一项所述的图形处理系统,其中所述标签控制模块被配置为基于冲刷策略而确定哪些标签缓冲器被冲刷。

8.根据权利要求7所述的图形处理系统,其中所述标签控制模块被配置为:(i)确定包含所述重叠的层的最远层的基元标识符的所述标签缓冲器将在冲刷另一个标签缓冲器之前被冲刷,或者(ii)确定最满的标签缓冲器将在冲刷另一个标签缓冲器之前被冲刷。

9.根据权利要求1至4中任一项所述的图形处理系统,其中所述标签控制模块被配置为控制基元标识符从所述标签缓冲器的冲刷,而使得(i)每次仅来自一个标签缓冲器的基元标识符被冲刷,或者(ii)来自多个标签缓冲器的基元标识符被同时冲刷。

10.根据权利要求1至4中任一项所述的图形处理系统,所述图形处理系统被配置为使用被细分为多个瓦片的渲染空间,并且其中所述图形处理系统包括多个深度缓冲器,所述深度缓冲器中的不同的深度缓冲器被配置为针对不同的瓦片存储深度值,

并且其中所述图形处理系统包括三个或更多标签缓冲器的群组,并且其中所述图形处理系统被配置为动态地将来自所述群组的一个或多个所述标签缓冲器的相应集合与所述瓦片中的每个瓦片相关联。

11.根据权利要求10所述的图形处理系统,其中所述标签控制模块被配置为使得如果基元标识符将要被存储在与特定瓦片相关联的标签缓冲器的所述集合中的标签缓冲器中的样本位置处、但是所述集合中没有所述标签缓冲器在所述样本位置处可用,则所述标签控制模块将来自标签缓冲器的所述群组的可用标签缓冲器添加到与所述特定瓦片相关联的标签缓冲器的所述集合。

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