[发明专利]具有可转换机械性能的纳米压印光刻材料

权利要求书

1.一种用于纳米压印光刻的方法，包括:

将压印掩模施加到纳米压印光刻NIL材料层以创建压印NIL材料层，所述NIL材料层包括模量水平低于柔性阈值的NIL材料，所述NIL材料层还具有当改变时引起所述NIL材料的模量水平改变的内部特性；

从所述压印掩模分离所述压印NIL材料层，所述NIL材料的模量水平使得在进行所述分离后所述压印NIL材料层的形状保持不变；以及

通过改变所述NIL材料的所述内部特性来增加所述压印NIL材料层的所述NIL材料的模量水平，所述模量水平增加为超过强度阈值以创建第一压印层，所述第一压印层在经历形成第二压印层的处理之后仍保持其结构。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，

所述NIL材料具有使用第一工艺反应的第一官能团和使用第二工艺反应的第二官能团，

其中，在使用所述第二工艺使所述第二官能团反应之前使用所述第一工艺使所述第一官能团反应，以及

其中，增加所述NIL材料的模量水平还包括使用所述第二工艺使所述NIL材料的所述第二官能团反应。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，

所述第一工艺是紫外线(UV)光固化，其中，所述第二工艺是热固化。

4.根据权利要求2所述的方法，其中，

所述第一官能团是以下中的一种：丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、环氧化物、乙烯基醚以及与烯烃基团结合的硫醇。

5.根据权利要求2所述的方法，其中，

所述第二官能团是以下中的一种：丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、环氧化物、乙烯基醚、与烯烃基团结合的硫醇、包括肉桂酸酯和香豆素之一的光二聚基团、以及包括狄尔斯-阿尔德加合物和环戊二烯-炔基团之一的热二聚基团。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，

所述NIL材料包括分布在非牺牲键中的牺牲键，其中，将所述压印NIL材料层从所述压印掩模分离导致所述牺牲键断裂，以及其中增加所述NIL材料的模量水平还包括将所述压印NIL材料层恢复到使断裂的牺牲键被重新连接的重置状态，其中，重新连接的所述牺牲键增加了所述NIL材料的模量水平。

7.根据权利要求6所述的方法，其中，

所述牺牲键是氢键。

8.根据权利要求6所述的方法，其中，

所述NIL材料包括从氨基甲酸乙酯、尿素、酯、碳酸酯、胺、酰胺、羧酸和羟基中的一种形成氢键的官能团。

9.根据权利要求1所述的方法，其中，

所述NIL材料包括含量超过阈值质量百分比的无机材料组分，并且其中，增加所述NIL材料的模量水平还包括:

将氧等离子体施加到所述压印NIL材料层，所述氧等离子体的施加导致在所述压印NIL材料层的表面上形成氧化层，所述氧化层由所述NIL材料的无机材料组分形成。

10.根据权利要求9所述的方法，其中，

所述阈值百分比为15％，并且其中，所述无机材料组分包括含硅和钛中的一种的化合物。