[发明专利]在薄膜上生成微纳米多孔结构的设备、方法和制得的薄膜

权利要求书

1.一种在薄膜上生成微纳米多孔结构的设备，其特征在于，包括

滚筒(100)，其具有空腔(110)，在所述空腔内设置有磁性元件(120)；

输送机构(200)，用于输送薄膜(10)；

加热器(300)，其设置于滚筒(100)外侧，用于对滚筒(100)外的薄膜(10)加热；以及

颗粒轰击装置(400)，其设置于滚筒(100)外侧，用于在磁场作用下，向所述滚筒(100)上的薄膜(10)以超音速喷射微纳米颗粒；

其中，所述加热器(300)和颗粒轰击装置(400)沿所述薄膜(10)的输送路径依次设置，所述磁性元件(120)用于向所述颗粒轰击装置(400)与所述滚筒(100)外表面之间的区域提供磁场。

2.根据权利要求1所述的在薄膜上生成微纳米多孔结构的设备，其特征在于，所述磁性元件(120)固定在所述滚筒(100)的空腔(110)内，可相对于所述滚筒(100)转动。

3.根据权利要求2所述的在薄膜上生成微纳米多孔结构的设备，其特征在于，所述磁性元件(120)设置在滚筒(100)的内壁上。

4.根据权利要求1所述的在薄膜上生成微纳米多孔结构的设备，其特征在于，所述输送机构(200)包括沿薄膜(10)输送路径依次设置的输送辊(210)、第一导向辊(220)、第二导向辊(230)和回收辊(240)，第一导向辊(220)和第二导向辊(230)分别设置于滚筒(100)的两侧的底部。

5.根据权利要求1所述的在薄膜上生成微纳米多孔结构的设备，其特征在于，所述颗粒轰击装置(400)包括：颗粒混匀腔体(410)、料斗(420)、压缩气体入口(430)以及喷嘴(440)；

所述颗粒混匀腔体(410)用于收容所述微纳米颗粒，所述料斗(420)设置在所述颗粒混匀腔体(410)的上方，与所述颗粒混匀腔体(410)连通；所述压缩气体入口(430)设置在所述颗粒混匀腔体(410)上，用于输入压缩气体；所述喷嘴(440)设置在所述颗粒混匀腔体(410)的一侧，用于输出微纳米颗粒，所述喷嘴(440)相对于所述滚筒(100)的外表面设置。

6.根据权利要求5所述的在薄膜上生成微纳米多孔结构的设备，其特征在于，所述颗粒混匀腔体(410)包括与所述喷嘴(440)连接的锥形部(411)；

所述喷嘴(440)包括与所述锥形部(411)连接的一端以及远离所述锥形部(411)的开口(441)；所述磁性颗粒从所述开口(441)输出；所述喷嘴(440)与所述锥形部(411)连接的一端的横截面积大于与所述开口(441)的横截面积。

7.一种在薄膜上生成微纳米多孔结构的方法，应用如权利要求1-6任一项所述的在薄膜上生成微纳米多孔结构的设备，其特征在于，包括如下步骤：

将薄膜(10)输送到滚筒(100)并覆盖于滚筒(100)外表面；

加热覆盖于所述滚筒(100)外表面的薄膜(10)，以使所述薄膜(10)的表面塑化；

在磁场作用下，采用颗粒轰击装置(400)轰击覆盖于所述滚筒(100)外表面的薄膜(10)，以在所述薄膜(10)上形成呈自然形态分布的微纳米多孔结构。

8.根据权利要求7所述的在薄膜上生成微纳米多孔结构的方法，其特征在于，所述磁场为所述颗粒轰击装置(400)与所述滚筒(100)外表面之间的磁场，由滚筒(100)内的磁性元件(120)提供。

9.一种微纳米多孔结构薄膜，其特征在于，所述薄膜表面具有微纳米多孔结构，所述微纳米多孔结构采用如权利要求8所述的方法生成到所述薄膜表面。

10.一种如权利要求9所述的微纳米多孔结构薄膜，其特征在于，所述微纳米多孔结构薄膜应用于机械工程、扬声器、医学、手术、航天器推进或分析仪器中。