[发明专利]镭雕蚀刻工艺在审
| 申请号： | 201910334946.4 | 申请日： | 2019-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN109955636A | 公开（公告）日： | 2019-07-02 |
| 发明（设计）人： | 段志宏;段世茂 | 申请（专利权）人： | 苏州星泽激光科技有限公司 |
| 主分类号： | B44C1/22 | 分类号： | B44C1/22 |
| 代理公司： | 北京国坤专利代理事务所(普通合伙) 11491 | 代理人： | 赵红霞 |
| 地址： | 215321 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 纹理 镭雕 封隔层 加工表面 蚀刻工艺 封隔液 开窗 成型 蚀刻 表面覆盖 成型周期 化学腐蚀 金属表面 均匀覆盖 喷砂工艺 平滑处理 外露金属 外露 对开窗 金属体 开窗部 模具槽 全流程 槽室 多层 击穿 镭射 弯折 固化 模具 清洗 调配 室内 加工 | ||
【权利要求书】：
1.镭雕蚀刻工艺，用于模具槽室的纹理成型，其特征在于包括如下步骤：
S1表面处理，
对模具的槽室进行清洗，再通过喷砂工艺对槽室内加工表面进行平滑处理；
S2表面覆盖封隔层，
调配封隔液，将封隔液均匀覆盖在加工表面上，封隔液固化后形成封隔层；
S3镭雕开窗，
根据成型纹理在封隔层上进行开窗，开窗部金属体外露；
S4化学腐蚀，
对开窗部的外露金属体进行蚀刻。
2.根据权利要求1所述镭雕蚀刻工艺，其特征在于：
所述步骤S2中，封隔液按照质量比包括：
10份黑色水性聚氨酯面漆，
5份固化剂，
8～10份稀料。
3.根据权利要求2所述镭雕蚀刻工艺，其特征在于：
所述步骤S1中，喷砂采用600目～800目碳化硅研磨颗粒。
4.根据权利要求2所述镭雕蚀刻工艺，其特征在于：
所述步骤S2中，覆盖在加工表面的封隔液的层厚为0.3mm±0.05mm，进行热光照固化，固化时间为5min±20s。
5.根据权利要求2所述镭雕蚀刻工艺，其特征在于：
所述步骤S3中，镭射强度控制在击穿封隔液层、金属表层灼刻深度小于0.001mm。
6.根据权利要求1所述镭雕蚀刻工艺，其特征在于：
所述加工表面具备曲面和/弯折面。
7.根据权利要求6所述镭雕蚀刻工艺，其特征在于：
所述纹理包括至少两层纹理层，任意纹理层采用步骤S2～步骤S4成型。
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