[发明专利]波面干涉仪及其校正方法有效

专利信息
申请号: 201910338910.3 申请日: 2019-04-25
公开(公告)号: CN109974577B 公开(公告)日: 2020-12-08
发明(设计)人: 郭柏均 申请(专利权)人: 业成科技(成都)有限公司;业成光电(深圳)有限公司;英特盛科技股份有限公司
主分类号: G01B9/02 分类号: G01B9/02;G01B11/24;G01M11/02
代理公司: 成都希盛知识产权代理有限公司 51226 代理人: 杨冬梅;张行知
地址: 611730 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 干涉仪 及其 校正 方法
【说明书】:

发明涉及一种波面干涉仪及其校正方法,其中波面干涉仪的校正方法包括:在被测物与光源之间设置一校正透镜,用于抵消入射光穿过被测物后引起的角度变化量;在所述校正透镜上设置一校正记号;测量撷取影像中所述校正记号的实际投影长度,将所述实际投影长度与所述理论投影长度对比,得到差值;根据所述差值校正所述被测物与所述被测物的投影之间的实际比例。该波面干涉仪及其校正方法通过增加一个带校正记号的校正透镜,即可达到对波面干涉仪的校正效果,不仅操作方便,还能减少其校正误差。

技术领域

本发明涉及干涉仪技术领域,特别是涉及一种波面干涉仪及其校正方法。

背景技术

干涉仪是很广泛的一类实验技术的总称,其思想在于利用波的叠加性来获取波的相位信息,从而获得实验所关心的物理量。干涉仪并不仅仅局限于光干涉仪。干涉仪在天文学、光学、工程测量、海洋学、地震学、波谱分析、量子物理实验、遥感、雷达等等精密测量领域都有广泛应用。其中,波面干涉仪主要用以检测光学元件的面形、光学镜头的波面像差以及光学材料均匀性等,由于其对投影精度的要求较高,在波面干涉仪中的各参数设置完成后,需要对影像比例(被测物与被测物的投影之间的比例关系)进行校正,而现有的波面干涉仪的校正方法误差较大,不仅不利于提高波面干涉仪的投影精度,甚至还可能出现降低波面干涉仪的投影精度的情况。

发明内容

基于此,针对上述问题,有必要提供一种波面干涉仪及其校正方法,减少校正误差,提高波面干涉仪的投影精度。

一种波面干涉仪的校正方法,包括:

在被测物与光源之间设置一校正透镜,用于抵消入射光穿过被测物时引起的角度变化量;

在所述校正透镜上设置一校正记号;

测量撷取影像中所述校正记号的实际投影长度,将所述实际投影长度与所述理论投影长度对比,得到差值;

根据所述差值校正所述被测物与所述被测物的投影之间的实际比例。

在其中一个实施例中,在所述校正透镜上设置一校正记号的步骤中,将所述校正记号的中心、校正透镜的中心与被测物的中心设置在同一直线上。

在其中一个实施例中,在被测物与光源之间设置一校正透镜的步骤中,使所述校正透镜远离所述被测物的一面设置为平面;使所述校正透镜靠近所述被测物的一面设置为与所述被测物中覆盖在被测面上的表面平行的曲面。

在其中一个实施例中,所述方法还包括:根据所述校正记号的实际长度、所述被测物与所述校正透镜的距离,以及所述入射光的角度,得到所述校正记号的理论投影长度。

在其中一个实施例中,所述方法还包括预设在撷取影像时受到反射光影响的部分影像所在区域的范围,将该范围内的区域设为无效区域。

在其中一个实施例中,在所述校正透镜上设置一校正记号的步骤中,使所述校正记号的投影落在所述无效区域内。

在其中一个实施例中,在所述校正透镜上设置一校正记号的步骤中,将所述校正记号设置在所述校正透镜远离所述被测物的表面,或

在所述校正透镜上设置一校正记号的步骤中,将所述校正记号设置在所述校正透镜靠近所述被测物的表面。

一种波面干涉仪,包括:

光源,产生入射光;

校正透镜,设置在所述光源和被测物之间,用于抵消入射光穿过所述被测物后引起的角度变化量;

其中,所述校正透镜上设置有校正记号,所述校正记号用于校正所述被测物与所述被测物的投影之间的实际比例。

在其中一个实施例中,所述校正记号的中心、校正透镜的中心与被测物的中心设置在同一直线上。

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