[发明专利]一种增加釉面平整度的制釉方法

权利要求书

1.一种增加釉面平整度的制釉方法，其特征在于，包括步骤为：（1）称取釉料石英、钾长石、高岭土和生石灰，并加入到研磨桶中，再向所述研磨桶中加入水、乳浊剂、抗菌剂和着色剂，研磨均匀得到釉料；（2）对所述釉料搅拌，进行均化陈腐，得到均化的釉料；（3）将均化的釉料施釉在瓷坯上，制得半成品瓷制品；（4）将所述半成品瓷制品置于窑炉内烧结，得到瓷制品。

2.根据权利要求1所述的增加釉面平整度的制釉方法，其特征在于，步骤（1）中所述釉料各组分的含量为：以重量份计，石英 20-25份、钾长石 50-55份、高岭土 9-13份、生石灰12-16份、乳浊剂 1-3份、抗菌剂 4-7份、着色剂 1-3份。

3.根据权利要求1所述的增加釉面平整度的制釉方法，其特征在于，步骤（1）中所述乳浊剂为氧化锡、二氧化钛、二氧化锆、磷酸盐中的一种或多种。

4.根据权利要求1所述的增加釉面平整度的制釉方法，其特征在于，步骤（1）中所述抗菌剂为溶于水的含有锌离子、铜离子、银离子中的一种或多种的无机盐。

5.根据权利要求1所述的增加釉面平整度的制釉方法，其特征在于，步骤（1）中所述着色剂为铜氧化物、铁氧化物、钴氧化剂中的一种或多种。

6.根据权利要求1所述的增加釉面平整度的制釉方法，其特征在于，步骤（2）中所述均化陈腐的时间为15-20小时。

7.根据权利要求1所述的增加釉面平整度的制釉方法，其特征在于，步骤（2）中所述均化陈腐的温度为室温。

8.根据权利要求1所述的增加釉面平整度的制釉方法，其特征在于，步骤（3）中所述施釉方法为刷釉或浇釉。

9.根据权利要求1所述的增加釉面平整度的制釉方法，其特征在于，步骤（4）中所述烧结过程为：先在1小时内将窑炉内升温至700摄氏度，保温30-40分钟，再在1.5小时内将窑炉内升温至1100摄氏度，保温30-40分钟，最后在30-40分钟内降温至900摄氏度，保温60-90分钟。

10.根据权利要求1所述的增加釉面平整度的制釉方法，其特征在于，步骤（4）中所述烧结结束后取出，自然冷却。