[发明专利]研磨垫原材料、研磨垫的制造方法、磁盘用基板的制造方法和磁盘的制造方法

说明书

本发明涉及研磨垫原材料、研磨垫的制造方法、磁盘用基板的制造方法和磁盘的制造方法。一种能够降低波长为50～200μm的微小起伏的磁盘用基板的制造方法，该制造方法包括下述研磨处理，即，用一对研磨垫夹持基板，向上述研磨垫与上述基板之间供给包含研磨磨粒的浆料，使上述研磨垫与上述基板相对滑动，由此对上述基板的两主表面进行研磨。上述研磨垫的研磨面由完成了开口处理的发泡树脂材料构成，该开口处理在上述基板的上述研磨处理前实施，其为将发泡树脂材料的至少表面膜削去而形成开口。使用上述开口处理前的上述发泡树脂材料的上述表面膜的表面粗糙度中的算术平均粗糙度Ra为0.65μm以下的发泡树脂材料作为开口处理前的研磨垫的原材料。

本申请是分案申请，其原申请的中国国家申请号为201580049946.X，申请日为2015年10月14日，发明名称为“磁盘用基板的制造方法和磁盘的制造方法”。

技术领域

本发明涉及磁盘用基板的制造方法和磁盘的制造方法。

背景技术

对于用作信息记录介质之一的磁盘而言，以往适宜地使用了玻璃基板。现在，应硬盘驱动装置中的存储容量增大的要求，实现了磁记录的高密度化。伴随于此，进行了下述操作：使磁头距磁记录面的悬浮距离极短，从而对磁记录信息区域进行微细化。对于这种磁盘用玻璃基板而言，为了达成高记录密度硬盘驱动装置所需的磁头低悬浮量化，降低玻璃基板的表面凹凸、特别是微小起伏的要求越来越强。

为了降低玻璃基板的表面凹凸、特别是微小起伏，需要以高精度进行玻璃基板的研磨处理。在研磨处理中，通过使研磨垫与玻璃基板相对滑动，从而对玻璃基板的主表面进行研磨。为了以高精度进行研磨处理，对研磨条件、例如研磨垫或研磨浆料的条件进行调整。特别是，由于研磨垫是与玻璃基板直接接触的部件，因而会对玻璃基板的表面凹凸产生大幅影响。这样的研磨垫如下得到：通过在玻璃基板的研磨开始前进行修整处理，使研磨垫的表面为特定的平坦度和表面粗糙度，由此得到上述研磨垫。

例如已知下述技术，其为用修整处理后的玻璃基板用研磨垫对玻璃基板进行研磨的玻璃基板研磨方法，其使用在修整处理中所用的板状的修整夹具，该修整夹具的板面的表面粗糙度以算术平均粗糙度Ra计为0.10μm～2.5μm，并且修整处理前后的板面的算术平均粗糙度Ra的变化量为15％以上(专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利5428793号公报

发明内容

发明所要解决的课题

近年来，为了实现磁头低悬浮量化，要求对玻璃基板的主表面的表面粗糙度中的微小起伏进行更严格的管理。例如，优选降低表面粗糙度中的与以往的微小起伏(波长为2μm～4mm)相比波长比较短的区域的特定范围的微小起伏(波长为50～200μm)。

在欲在玻璃基板中实现这种波长为50～200μm的微小起伏的降低的情况下，仅通过使用上述修整夹具未必能够降低玻璃基板的波长短的微小起伏。关于这种玻璃基板中的问题，在实施研磨处理制成磁盘用基板的铝金制基板中也存在同样的问题。

因此，本发明的目的在于提供一种能够降低研磨处理后的基板的表面粗糙度中的、基板的主表面的波长为50～200μm的微小起伏的磁盘用基板的制造方法以及磁盘的制造方法。

用于解决课题的方案