[发明专利]可集成式硅振荡器结构及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910352638.4 申请日: 2019-04-29
公开(公告)号: CN110113006A 公开(公告)日: 2019-08-09
发明(设计)人: 黄向向;杨敏;道格拉斯·雷·斯巴克斯;关健 申请(专利权)人: 罕王微电子(辽宁)有限公司
主分类号: H03B5/04 分类号: H03B5/04;H03B5/06
代理公司: 沈阳晨创科技专利代理有限责任公司 21001 代理人: 张晨
地址: 113000 辽宁省抚顺*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 振荡器结构 硅谐振器 可集成 直接制备 集成电路芯片 键合工艺 振荡器 制备 玻璃浆料 传统石英 防震效果 共晶键合 振动影响 直接键合 易碎 集成度 可编程 谐振器 功耗 键合 晶振
【说明书】:

可集成式硅振荡器结构,其特征在于:所述的可集成式硅振荡器结构,有三种谐振器的结构,MEMS芯片与CMOS集成电路通过键合工艺集成在一起,在CMOS集成电路上直接制备硅谐振器,单独的MEMS硅谐振器,集成电路芯片也是单独的。一种可集成式硅振荡器结构的制备方法,其特征在于:在CMOS集成电路上直接制备硅谐振器,单独的MEMS硅谐振器,集成电路芯片也是单独的;键合工艺可以是共晶键合、硅‑硅直接键合、玻璃浆料键合等工艺的一种;在CMOS集成电路上直接制备硅振荡器;单独MEMS硅振荡器。本发明的优点:防震效果是传统石英晶振产品的25倍,具有不受振动影响、不易碎的特点。还具有可集成度高、可编程、尺寸小、功耗小等优点。

技术领域

本发明涉及传感器领域,特别涉及了可集成式硅振荡器结构及其制备方法。

背景技术

目前,市场上常用的振荡器是石英振荡器也叫石英晶振。石英晶振就是用石英材料做成的石英晶体谐振器,俗称晶振,常规产品结构复杂,制备工艺复杂,生产困难。

发明内容

本发明的目的是为了实现结构合理,简化制备工艺,特提供了可集成式硅振荡器结构及其制备方法。

本发明提供了可集成式硅振荡器结构,其特征在于:所述的可集成式硅振荡器结构,有三种谐振器的结构,MEMS芯片与CMOS集成电路通过键合工艺集成在一起,在CMOS集成电路上直接制备硅谐振器,单独的MEMS硅谐振器,集成电路芯片也是单独的;

MEMS谐振器通过键合工艺与CMOS集成电路集成在一起;与CMOS电路键合集成硅振荡器器结构,分为三种结构:

第一种结构:带有引线键合盘的可与CMOS集成电路键合的硅谐振器,由腔体晶圆1,吸气剂5,微谐振器3,键合区域2,CMOS集成电路6,引线键合盘7,衬底8组成;

第二种结构:带有硅通孔金属连接的可与CMOS集成电路键合的硅谐振器,由腔体晶圆1,吸气剂5,微谐振器3,键合区域2,CMOS集成电路6,硅通孔7,金属凸块8组成;

第三种结构:带有热控制的可与CMOS集成电路键合的硅谐振器;

由腔体晶圆1、吸气剂5、微谐振器3、键合区域2、CMOS集成电路6、硅通孔7和金属凸块8组成,热控制金属线条12,热隔离槽13组成;此种结构可以始终保持硅谐振器的温度为常数,可以在外部温度环境变化更大的时候提供稳定的输出频率;

腔体晶圆1:由硅、SOI晶圆、带有外延层的硅晶圆构成;

吸气剂2:作为保证腔体晶圆中真空环境的重要材料,由钛或锆,铁或其一种或几种的合金或氧化物构成;

微谐振器3:由硅组成,属于腔体晶圆一部分,通过光刻,刻蚀等工艺在腔体晶圆上制备而成;

键合区域4:腔体晶圆1与CMOS集成电流晶圆5通过键合工艺结合成为一个整体,键合区域4就是腔体晶圆1与CMOS集成电流晶圆5的连接部分,键合工艺可以是共晶键合、硅-硅直接键合、玻璃浆料键合等工艺的一种;

CMOS集成电路晶圆5:由硅材料组成,为谐振器提供电学处理功能;

引线键合盘6:由Al,Cu等金属材料组成,为振荡器提供外部电学连接;

硅通孔7:用于振荡器外部电学连接用,硅通孔中填充铜金属作为电学介质;

金属凸块8:与硅通孔中通金属连接,用于电学连接用,由铜或其他金属材料组成;

热控制金属12:通过金属沉积工艺,当通过电流时产生热量,用于调节硅谐振器的温度,使其温度始终为常数,提供更稳定的频率输出。

一种可集成式硅振荡器结构的制备方法,其特征在于:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于罕王微电子(辽宁)有限公司,未经罕王微电子(辽宁)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910352638.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top