[发明专利]一种低辐射镀膜玻璃及其制备方法

权利要求书

1.一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于，包括依次分布的玻璃基材、Ag层、复合镀层、Ag层、保护层；

所述玻璃基材为普通浮法玻璃；

所述复合镀层包括吸收镀层、第一镀层、第二镀层和第三镀层、反射镀层；

所述吸收镀层为氧化锡、氧化钛、氧化镁、氧化锌、氧化铁、氧化镍中的任意一种；

所述第一镀层为氮化硅或碳化硅；

所述第二镀层为掺杂镧的氮化铬；

所述第三镀层为氮化硅或碳化硅；

所述反射镀层为镓、锗、铟、锡、锑中的任意一种或其氧化物、氮化物、氮氧化物；

所述保护层为石墨烯。

2.如权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，包括依次分布的玻璃基材、Ag层、复合镀层、Ag层、保护层；

所述玻璃基材为普通浮法玻璃；

所述复合镀层包括吸收镀层、第一镀层、第二镀层和第三镀层、反射镀层；

所述吸收镀层为氧化锌；

所述第一镀层为氮化硅；

所述第二镀层为掺杂镧的氮化铬；

所述第三镀层为氮化硅；

所述反射镀层为氮氧化镓；

所述保护层为石墨烯。

3.如权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述低辐射镀膜玻璃的辐射率为0.042-0.054，光透过率为82-90％，远红外反射率≥99％。

4.如权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述玻璃基材的厚度为1-5mm，Ag层10-15nm，吸收镀层20-30nm，第一镀1-5nm，第二镀层5-10nm，第三镀层1-5nm，反射镀层20-30nm，保护层30-50nm。

5.如权利要求4所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述玻璃基材的厚度为5mm，Ag层10nm，吸收镀层20nm，第一镀5nm，第二镀层5nm，第三镀层5nm，反射镀层20nm，保护层50nm。

6.如权利要求1-5中任一项所述的低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，具体如下：

将玻璃基材去离子水、丙酮清洗后烘干通过辊道输送到磁控溅射设备中，依次镀Ag层、吸收镀层、第一镀层、第二镀层和第三镀层、反射镀层、Ag层、保护层。

7.如权利要求6所述的低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，磁控溅射镀膜的工作气体为Ar和N₂按体积比10-20:1混合而成的气体。

8.如权利要求6所述的低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，镀Ag层时，工作气体流量为1000-1200sccm，真空度为3×10^-3Pa，溅射时间为1-10s，镀吸收镀层和反射镀层时，工作气体流量为600-800sccm，真空度为5×10^-3Pa，溅射时间为1-10s，镀第一镀层、第二镀层和第三镀层时，工作气体流量为600-800sccm，真空度为3×10^-3Pa，溅射时间为1-10s，镀保护层时，工作气体流量为600-800sccm，真空度为3×10^-3Pa，溅射时间为10-30s。