[发明专利]一种磁控溅射用靶材的制备装置及方法

说明书

本发明公开了一种磁控溅射用靶材的制备装置及方法，包括料仓，所述料仓下设有下料管，所述下料管上设有电磁阀，所述下料管下方设有烧结炉体，所述烧结炉体的一侧设有控制器，所述烧结炉体上设有进料管，所述进料管与所述下料管相匹配，所述进料管内设有称重斗,所述称重斗下端设有电控自动门，所述电控自动门安装在所述进料管的内壁上，所述电控自动门与称重斗之间设有压力传感器，所述烧结炉体内部设有电热丝放置腔。有益效果：设备简单、烧结时间短，成本低，产品的密度高，质量上乘，机械化程度高，可进行连续的生产，增加了生产的效率，有效的利用了余热，减少了能源的消耗。

技术领域

本发明涉及靶材技术领域，具体来说，涉及一种磁控溅射用靶材的制备装置及方法。

背景技术

众所周知，靶材材料的技术发展趋势与下游应用产业的薄膜技术发展趋势息息相关，随着应用产业在薄膜产品或元件上的技术改进，靶材技术也应随之变化。如Ic制造商，近段时间致力于低电阻率铜布线的开发，预计未来几年将大幅度取代原来的铝膜，这样铜靶及其所需阻挡层靶材的开发将刻不容缓。另外，近年来平面显示器(FPD)大幅度取代原以阴极射线管(CRT)为主的电脑显示器及电视机市场。亦将大幅增加ITO靶材的技术与市场需求。此外在存储技术方面。高密度、大容量硬盘，高密度的可擦写光盘的需求持续增加。这些均导致应用产业对靶材的需求发生变化。

但是现有的靶材的制造需要将原材料进行预热、融化然后浇注压制而成，不能够进行持续的作业，生产效率低下。

针对相关技术中的问题，目前尚未提出有效的解决方案。

发明内容

本发明的目的在于提供一种磁控溅射用靶材的制备装置及方法以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种磁控溅射用靶材的制备装置，包括料仓，所述料仓下设有下料管，所述下料管上设有电磁阀，所述下料管下方设有烧结炉体，所述烧结炉体的一侧设有控制器，所述烧结炉体上设有进料管，所述进料管与所述下料管相匹配，所述进料管内设有称重斗, 所述称重斗下端设有电控自动门，所述电控自动门安装在所述进料管的内壁上，所述电控自动门与称重斗之间设有压力传感器，所述烧结炉体内部设有电热丝放置腔，所述电热丝放置腔内壁设有电加热丝，所述电热丝放置腔上位于所述烧结炉体内设有集热腔，所述集热腔上开设有主加热开口，所述电加热丝位于所述主加热开口下方，所述主加热开口的两侧位于所述集热腔上分别设有预热开口和保温开口，所述烧结炉体的一侧位于所述集热腔的上方开设有缺口，所述缺口内设有转盘，所述转盘的中部设有转轴，所述转轴远离所述转盘的一端位于第一电机的输出端，所述转盘的周围设有若干放置槽，所述放置槽下开设有第一通孔，所述放置槽内放置设有底模，所述底模包括外壳，所述外壳的两侧设有转动杆，所述放置槽的两侧设有立板，所述立板上开设有卡槽，所述卡槽与所述转动杆相匹配，所述外壳下设有第二通孔，所述第二通孔与所述第一通孔相匹配，所述外壳内设有内模，所述内模上设有把手板，所述放置槽的一侧开设有放置空腔，所述放置空腔内固定设有第二电机，所述第二电机的输出端固定设有旋转板，所述旋转板的边缘位置固定设有固定柱，所述固定柱上套设有套环，所述套环的一侧固定设有第一传动杆，所述第一传动杆远离所述套环的一端通过活动轴活动连接设有第二传动杆，所述放置槽与所述放置空腔之间设有传动杆通道，所述第二传动杆贯穿所述传动杆通道延伸至所述放置槽内与所述底模的外壁相匹配，所述烧结炉体的一侧设有液压杆，所述液压杆的输出端设有上模，所述上模与所述内模相匹配，所述电磁阀、电控自动门、第一电机、第二电机、电加热丝分别与所述控制器电性连接。

进一步的，所述进料管的内壁上设有导料板。

进一步的，所述电热丝放置腔的一侧设有检修门。

进一步的，所述外壳内壁设有若干限位柱，所述限位柱令所述外壳和所述内模之间形成导热空腔。

进一步的，所述内模包括陶瓷侧壁和合金底板，所述合金底板固定在所述陶瓷侧壁的底部，所述合金底板与所述第二通孔相匹配。