[发明专利]具有导通控制的化学沉积设备

权利要求书

1.一种控制化学沉积设备的腔体内的导通的方法，包括：

在所述化学沉积设备的所述腔体内处理衬底，所述腔体形成在喷头模块与被配置为接收所述衬底的衬底基座模块之间，其中所述喷头模块包括输送反应器化学成分到所述腔体的多个入口和从所述腔体清除反应器化学成分和净化气体的排放出口；

注射净化气体到所述腔体中；并且

使用经由所述排放出口流体连通所述腔体的至少一个导通控制组件来控制所述腔体的导通状态的变化，所述至少一个导通控制组件包括：

球阀组件，所述球阀组件包括：

具有锥形下部的壳体；

从所述壳体的所述锥形下部延伸到所述腔体的一个或多个排放出口的导管，所述导管具有入口和出口；以及

被配置为配合在所述锥形下部内的球状体，并且其中所述球状体被配置为在配料步骤期间阻塞所述导管的所述出口并且防止所述反应器化学成分流过所述导管，且在清扫步骤期间当超过所述腔体内的第一压力和流速时通过上升以在所述球状体的下表面与所述导管的所述出口之间提供开口来允许所述反应器化学成分和净化气体从所述腔体流入一个或多个抽排真空管道。

2.如权利要求1所述的方法，其包括：使用一个或多个抽排真空管道将所述至少一个导通控制组件连接到抽排设备。

3.一种化学沉积设备，其包括：

化学离析室；

形成在所述化学离析室内的沉积室；

具有面板和背板的喷头模块，所述面板包括输送反应器化学成分到腔体的多个入口和经由从所述腔体的外边缘径向延伸的排放通道从所述腔体清除反应器化学成分的在所述入口的径向外侧的排放出口；以及

至少一个导通控制组件，其经由所述排放出口与所述腔体流体连通并且抽排设备通过一个或多个抽排真空管道流体连接到所述至少一个导通控制组件，所述至少一个导通控制组件包括球阀组件，所述球阀组件包括：

具有锥形下部的壳体；

从所述壳体的所述锥形下部延伸到所述腔体的一个或多个排放出口的导管，所述导管具有入口和出口；以及

被配置为配合在所述锥形下部内的球状体，并且其中所述球状体被配置为在配料步骤期间阻塞所述导管的所述出口并且防止所述反应器化学成分流过所述导管，且在清扫步骤期间当超过所述腔体内的第一压力和流速时由于所述腔体内的压力结合净化气体流入所述腔体中的流速超过所述第一压力和流速而通过上升以在所述球状体的下表面与所述导管的所述出口之间提供开口来允许所述反应器化学成分和净化气体从所述腔体流入一个或多个抽排真空管道。

4.如权利要求3所述的设备，其包括：净化气体源，所述净化气体被供应到所述腔体以清除所述腔体的所述反应器化学成分。

5.如权利要求3所述的设备，其中所述球阀组件的所述壳体包括上部，所述上部流体连通所述一个或多个抽排真空管道。

6.如权利要求3所述的设备，其中所述球阀组件的所述球状体被配置为在所述配料步骤期间处于所述腔体的所述第一压力和流速或处于所述腔体的所述第一压力和流速以下时阻塞所述导管的所述出口。

7.如权利要求3所述的设备，其包括：衬底基座模块，其被配置为支撑衬底并且垂直移动以关闭所述基座模块与所述面板的外部之间的所述腔体，并且其中所述至少一个导通控制组件是绕着所述衬底基座模块在周向上均匀间隔开的多个导通控制组件。

8.如权利要求7所述的设备，其中所述多个导通控制组件中的每一个被配置为流体连接两个或更多个排放出口。

9.如权利要求3所述的设备，其中所述球阀组件的所述球状体是由耐蚀材料制成的，并且其中所述球状体的重量和大小被配置为仅在从所述腔体清除所述反应器化学成分期间上升。