[发明专利]一种磁控溅射用靶材的回收系统及其回收工艺

说明书

本发明公开了一种磁控溅射用靶材的回收系统及其回收工艺，包括传送机构、第一清洗机构、烘干机构、第二清洗机构、打磨机构、转运车、切割机构和高压锻造炉，所述传送机构包括传送轨道，传送轨道内设有滚轮，滚轮设置于活动连接板上，活动连接板的两端设有连接端头，所述连接端头上连接固定在连接链条的两端，传送轨道的两端设有第一链轮，所述传送轨道上固定设有第一电机，第一电机的输出端设有第二链轮，所述连接链条依次与所述第一链轮和所述第二链轮相链接。有益效果：使用方便，可在打磨的同时进行有机溶剂清洗，进而连续进行回收，增加了回收的效率。具有简化回收工艺，回收后的靶材可继续用于磁控溅射中，节约了成本的优点。

技术领域

本发明涉及磁控溅射领域，具体来说，涉及一种磁控溅射用靶材的回收系统及其回收工艺。

背景技术

近年来，随着信息产业、电子工业、平板显示产业、功能玻璃等迅速的发展，作为该技术中透明导电膜所用的靶材的需求越来越大，由于这些靶材的利用率才30％左右，因此将产生大量的废旧靶材。溅射靶(sputtering target)通常是用接合材料将由金属、合金或陶瓷构成的靶材与支承构件结合(粘结(bonding))而形成的。

而使用后的废靶材存在大量可以重复使用的结构，因此缺少一种能够将废靶材重新使用的靶材回收系统。

针对相关技术中的问题，目前尚未提出有效的解决方案。

发明内容

本发明的目的在于提供一种磁控溅射用靶材的回收系统及其回收工艺，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种磁控溅射用靶材的回收系统及其回收工艺，包括传送机构、第一清洗机构、烘干机构、第二清洗机构、打磨机构、转运车、切割机构和高压锻造炉，所述传送机构包括传送轨道，所述传送轨道内设有滚轮，所述滚轮设置于活动连接板上，所述活动连接板的两端设有连接端头，所述连接端头上连接固定在连接链条的两端，所述传送轨道的两端设有第一链轮，所述传送轨道上固定设有第一电机，所述第一电机的输出端设有第二链轮，所述连接链条依次与所述第一链轮和所述第二链轮相链接，所述活动连接板下固定设有第一气缸，所述第一气缸的输出端通过若干连接杆固定设有环形过滤网，所述环形过滤网远离所述连接杆的一端设有过滤底板，所述过滤底板的中部设有旋转中轴，所述旋转中轴的两端与所述环形过滤网相连接，所述环形过滤网上位于所述过滤底板的两侧设有限位挡柱，所述传送轨道下设有所述第一清洗机构，所述第一清洗机构包括壳体，所述壳体的内固定设有清洗槽，所述清洗槽的内壁固定设有若干高压喷头，所述高压喷头的输入端通过第一水管与水泵的输出端相连接，所述水泵位于所述壳体内，所述水泵的输入端通过第二水管与所述清洗槽相连接，所述壳体的一侧设有烘干机构，所述烘干机构包括数量为两块限位板，所述限位板之间设有若干烤灯，所述限位板相互靠近的一侧设有风机，所述限位板的一侧设有所述第二清洗机构，所述第二清洗机构包括超声波清洗机，所述超声波清洗机的一侧设有所述打磨机构，所述打磨机构包括第一支架，所述第一支架上设有连接轴，所述连接轴旋转设有旋转筒，所述旋转筒上设有密封机构，所述旋转筒内填充有打磨磨料，所述旋转筒的一侧固定设有第一齿轮，所述第一齿轮的一侧设有第二齿轮，所述第二齿轮位于第二电机的输出端，所述第一支架的一侧设有切割机构，所述切割机构包括第二支架，所述第二支架上固定设有第二气缸，所述第二气缸的输出端固定设有切割机，所述切割机下设有底板，所述底板上固定设有数量为两个的挡板，其中一个挡板内侧固定设有第三气缸，所述第三气缸上设有夹板，所述第二支架的一侧设有所述高压锻造炉，所述高压锻造炉的一侧设有模具组，所述第一支架下设有所述转运车。

进一步的，所述传送轨道的两端开设有缺口，所述缺口的两侧位于所述传送轨道上固定设有立柱，所述立柱之间设有转轴，所述转轴的中部位于所述缺口内设有所述第一链轮。

进一步的，所述第一清洗机构的数量为两台，且，其中一台中的清洗液为水，另一台的清洗液为有机溶剂。