[发明专利]干涉调制显示面板及其制作方法、显示装置、显示方法有效

专利信息
申请号: 201910355671.2 申请日: 2019-04-29
公开(公告)号: CN110068922B 公开(公告)日: 2021-09-21
发明(设计)人: 卜倩倩;王丹;邱云;孙晓;胡伟频;魏从从 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: G02B26/00 分类号: G02B26/00
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;胡影
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 干涉 调制 显示 面板 及其 制作方法 显示装置 方法
【说明书】:

发明提供一种干涉调制显示面板及其制作方法、显示装置、显示方法,该显示面板包括:下基板、中间基板和上基板,中间基板上开设有通孔,中间基板和下基板上设置有驱动电极;设置于上基板和中间基板之间的多个第一腔室;设置于中间基板和下基板之间的多个第二腔室,第一腔室和第二腔室一一对应,对应的第一腔室和第二腔室通过通孔连通;第一液体,设置于第一腔室内;第二液体,设置于第二腔室内,第一液体和第二液体不相溶,第二液体的密度大于第一液体的密度,第一液体的反射率大于预设阈值;驱动电极被施加电压后,产生用于驱动第二液体向第一腔室移动的驱动电场。本发明采用微流控技术实现干涉调制显示,无需硅基MEMS制程,制作工艺简单。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种干涉调制显示面板及其制作方法、显示装置、显示方法。

背景技术

干涉调制显示(Interferometric Modulator Display,IMOD)利用两个基板表面之间的空气间隙的光反射形成干涉,通过控制空气间隙的大小,从而产生不同的颜色。

现有的干涉调制显示多采用微机电系统(MEMS)电路实现,MEMS电路需要在硅片上进行制作且工艺较为复杂,不利于干涉调制显示的广泛应用。

发明内容

有鉴于此,本发明提供一种干涉调制显示面板及其制作方法、显示装置和显示方法,用于解决现有的采用MEMS电路实现干涉调制显示,制作工艺复杂的问题。

为解决上述技术问题,本发明提供一种干涉调制显示面板,包括:

依次设置的下基板、中间基板和上基板,所述中间基板上开设有通孔,所述中间基板和所述下基板上设置有驱动电极;

第一隔离墙,设置于所述上基板和所述中间基板之间,所述第一隔离墙限定出位于所述上基板和所述中间基板之间的多个第一腔室;

第二隔离墙,设置于所述中间基板和所述下基板之间,所述第二隔离墙限定出位于所述中间基板和所述下基板之间的多个第二腔室,所述第一腔室和所述第二腔室一一对应,对应的所述第一腔室和所述第二腔室通过所述中间基板上的通孔连通;

第一液体,设置于所述第一腔室内;

第二液体,设置于所述第二腔室内,所述第一液体和所述第二液体不相溶,所述第二液体的密度大于所述第一液体的密度,所述第一液体的反射率大于预设阈值;

其中,所述驱动电极被施加电压后,产生用于驱动所述第二液体通过所述中间基板上的通孔向所述第一腔室移动的驱动电场。

可选的,所述下基板包括:

第一衬底;

第一电极,设置于所述第一衬底上;

第一钝化层,设置于所述第一电极上;

第一疏水介质层,设置于所述第一钝化层上;

其中,所述驱动电极包括所述第一电极。

可选的,所述中间基板包括:

第二衬底;

第二电极,设置于所述第二衬底的第一侧;

第二钝化层,设置于所述第二电极上;

第二疏水介质层,设置于所述第二钝化层上;

薄膜晶体管功能层,设置于所述第二衬底的第二侧,所述薄膜晶体管功能层包括源极和漏极;

第三钝化层,设置于所述薄膜晶体管功能层上;

第三电极,设置于所述第三钝化层上,所述第三电极与所述源极或所述漏极连接;

第三疏水介质层,设置于所述第三电极上;

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