[发明专利]离子束中和方法和离子注入装置有效
| 申请号： | 201910358773.X | 申请日： | 2019-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN110828269B | 公开（公告）日： | 2022-03-29 |
| 发明（设计）人： | 锹田雄介 | 申请（专利权）人： | 日新离子机器株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人： | 李成必;李雪春 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 离子束 中和 方法 离子 注入 装置 | ||
1.一种离子束中和方法，其特征在于，
在从导入离子源的掺杂气体的等离子体通过引出电极引出的离子束中，
根据所述掺杂气体是否含卤，对是否供给中和用气体进行切换，
当所述掺杂气体含卤时，不向离子束轨道供给中和用气体，
当所述掺杂气体不含卤时，向离子束轨道供给中和用气体。
2.根据权利要求1所述的离子束中和方法，其特征在于，向离子束轨道供给的所述中和用气体是含卤气体。
3.根据权利要求1所述的离子束中和方法，其特征在于，向离子束轨道供给的中和用气体量通过质量流量控制器调整。
4.一种离子束中和方法，其特征在于，
将从导入离子源的掺杂气体的等离子体通过引出电极引出的离子束，通过质量分析电磁铁和分析狭缝，仅将期望的离子向基板照射的装置中，
根据所述掺杂气体是否含卤，对是否供给中和用气体进行切换，
当所述掺杂气体含卤时，不向从所述引出电极至分析狭缝间的离子束轨道供给中和用气体，
当所述掺杂气体不含卤时，向从所述引出电极至分析狭缝间的离子束轨道供给中和用气体。
5.根据权利要求4所述的离子束中和方法，其特征在于，向离子束轨道供给的所述中和用气体是含卤气体。
6.根据权利要求4所述的离子束中和方法，其特征在于，向离子束轨道供给的中和用气体量通过质量流量控制器调整。
7.一种离子注入装置，其特征在于包括：
使掺杂气体离子化的离子源；
将离子化的离子引出的引出电极；
对引出的离子束进行质量分析的质量分析电磁铁；
配置在所述质量分析电磁铁的下游的分析狭缝；
配置在所述引出电极和所述分析狭缝间的中和用气体导入口；以及
控制装置，根据所述掺杂气体是否含卤，对是否供给中和用气体进行切换，当所述掺杂气体含卤时，不向离子束轨道供给中和用气体，当所述掺杂气体不含卤时，向离子束轨道供给中和用气体。
8.根据权利要求7所述的离子注入装置，其特征在于，
所述离子束为带状离子束，
所述中和用气体导入口处于所述带状离子束的长度方向的中央。
9.根据权利要求7所述的离子注入装置，其特征在于，
所述离子束为带状离子束，
所述中和用气体导入口处于质量分析电磁铁内的所述带状离子束的轨道的中央。
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