[发明专利]光纤光栅阵列在线制备写入装置的半自动化测控装置

权利要求书

1.一种光纤光栅阵列在线制备写入装置的半自动化测控装置，其特征在于，包括：

透镜调节控制系统，包括电控直线导轨，其上设置有多个承载滑块，每个承载滑块上设置有透镜电调模块；

光栅尺平台监测系统，包括水平光栅尺，其上依次设置有多个水平滑块，每个水平滑块上设置有一个垂直光栅尺，所述垂直光栅尺上设置有一个垂直滑块，所述垂直滑块上设置有连接杆，所述连接杆固定于所述透镜电调模块上；

相位掩模板组件电控系统，包括掩模板调节滑块，其上设置有两个测距探头和多个掩模板，所述两个测距探头彼此平行设置并对准裸光纤；

集中控制系统，与所述透镜调节控制系统、所述光栅尺平台监测系统、所述相位掩模板组件电控系统均连接，获取所述水平滑块在水平光栅尺上的位置信息，以及所述垂直滑块在垂直光栅尺位置信息，同时获取掩模板距离裸光纤的距离信息，所述集中控制系统根据获取的信息，自动调节所述多个承载滑块及其上设置的透镜电调模块的位置，自动调节掩模板调节滑块的位置。

2.根据权利要求1所述的光纤光栅阵列在线制备写入装置的半自动化测控装置，其特征在于，所述电控直线导轨沿激光器光束方向设置于激光器出口的光学平台上，导轨长度40cm~80cm，所述水平光栅尺的长度大于所述电控直线导轨长度。

3.根据权利要求1所述的光纤光栅阵列在线制备写入装置的半自动化测控装置，其特征在于，所述多个承载滑块的调节方向与激光器光束方向平行，所述多个承载滑块上设置的透镜电调模块的调节方向与激光器光束方向垂直，所述掩模板调节滑块沿激光器光束平行方向和垂直方向二维调节。

4.根据权利要求1所述的光纤光栅阵列在线制备写入装置的半自动化测控装置，其特征在于，所述多个承载滑块及其上设置的透镜电调模块均与所述集中控制系统连接，并由所述集中控制系统单独控制。

5.根据权利要求1所述的光纤光栅阵列在线制备写入装置的半自动化测控装置，其特征在于，所述水平光栅尺、所述多个水平滑块及其上设置的垂直光栅尺分别与所述集中控制系统连接。

6.根据权利要求1所述的光纤光栅阵列在线制备写入装置的半自动化测控装置，其特征在于，所述承载滑块、所述透镜电调模块、所述掩模板调节滑块均采用压电陶瓷驱动。

7.根据权利要求1所述的光纤光栅阵列在线制备写入装置的半自动化测控装置，其特征在于，所述水平光栅尺上设置的水平滑块个数与所述电控直线导轨上设置的承载滑块个数一致。

8.根据权利要求1所述的光纤光栅阵列在线制备写入装置的半自动化测控装置，其特征在于，所述集中控制系统还包括软件界面，用于显示光栅写入装置中各透镜和相位掩模板沿激光光束方向位置信息与垂直于激光光束方向位置信息。

9.一种光纤光栅阵列在线制备写入装置的半自动化测控方法，其特征在于,包括以下步骤：

S1、集中控制系统根据初始设置调节电控直线导轨上多个承载滑块的位置，以及承载滑块上透镜电调模块的位置，使所述透镜电调模块上透镜的光轴共线，并与激光器光束方向在一条直线上，并调节相位掩模板组件电控系统使其中心与激光器光束方向在一条直线上；

S2、光栅尺平台监测系统将多个水平滑块在水平光栅尺上的位置信息，以及水平滑块上设置的垂直滑块所对应的垂直光栅尺位置信息反馈给所述集中控制系统，同时所述相位掩模板组件电控系统上的两个测距探头将掩模板距离裸光纤的距离信息反馈给所述集中控制系统；

S3、所述集中控制系统根据刻写模式与所述多个承载滑块及其上设置的透镜电调模块的位置信息以及所述相位掩模板组件电控系统的位置信息，控制各承载滑块、透镜电调模块和掩模板调节滑块自动移动到相应位置，手动对透镜进行俯仰角度、水平方向的平移和旋转角度的微调；

S4、光纤光栅阵列在线制备写入装置根据调节好的位置制备光栅，实时监控各个承载滑块、透镜电调模块和掩模板调节滑块位置信息，当各承载滑块、透镜电调模块和掩模板调节滑块位置发生变化时，重复S3，重新进行位置校准。