[发明专利]含有苯并恶唑或苯并噻唑基团的肟酯类化合物及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种含有苯并恶唑或苯并噻唑基团的肟酯类化合物，其特征在于：其通式如下：

；

其中，R₁、R₂、R₃、R₄、R₅、R₆、R₇和R₈分别选自氢、卤素原子、C₁-C₂₄直链烷基、C₁-C₂₄支链烷基中的一种；R₉是C₁-C₂₀的直链烷基、C₁-C₂₀支链烷基、环烷基烷基的一种；R₁₀是 C₁-C₂₀的直链烷基、C₁-C₂₀支链烷基、C₆-C₁₂芳基的一种。

2.根据权利要求1所述的含有苯并恶唑或苯并噻唑基团的肟酯类化合物，其特征在于：所述环烷基烷基选自，其中，x=1-5，y=1-6。

3.一种根据权利要求1所述的含有苯并恶唑或苯并噻唑基团的肟酯类化合物的制备方法，其特征在于：其包括如下步骤：

（a）、R₁、R₂、R₃、R₄取代2-甲基苯并恶唑或R₁、R₂、R₃、R₄取代2-甲基苯并噻唑和R₅、R₆、R₇、R₈取代4-溴苯甲醛在碱条件下反应，得到含有溴代苯乙烯基团取代的苯并恶唑衍生物（1）或含有溴代苯乙烯基团取代的苯并噻唑衍生物（1）：

；

（b）、含有溴代苯乙烯基团取代的苯并恶唑衍生物（1）或含有溴代苯乙烯基团取代的苯并噻唑衍生物（1）在烷基锂或金属镁条件下反应，得到含有烷基酮苯乙烯基团取代的苯并恶唑中间体（2）或含有烷基酮苯乙烯基团取代的苯并噻唑中间体（2）：

；

（c）、含有烷基酮苯乙烯基团取代的苯并恶唑中间体（2）或含有烷基酮苯乙烯基团取代的苯并噻唑中间体（2）在碱条件下和盐酸羟胺进行反应，得到肟产物（3）：

；

（d）、所述肟产物（3）与酰氯或者酸酐在碱性作用下进行反应，得到含有苯并恶唑或苯并噻唑基团的肟酯类化合物：

R₁、R₂、R₃、R₄、R₅、R₆、R₇、R₈ 、R₉和R₁₀和与权利要求1相对应。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于：所述环烷基烷基选自，其中，x=1-5，y=1-6。

5.一种如权利要求1所述的含有苯并恶唑或苯并噻唑基团的肟酯类化合物作为辐射固化光敏引发剂的用途。

6.根据权利要求5所述的用途，其特征在于：所述辐射固化光敏引发剂的光源选自紫外光或可见光中的一种以上。

7.根据权利要求5所述的用途，其特征在于：所述辐射固化光敏引发剂包括0.01-30重量份含有苯并恶唑或苯并噻唑基团的肟酯类化合物和100重量份含烯键不饱和化合物。

8.根据权利要求5所述的用途，其特征在于：所述辐射固化光敏引发剂包括0.5-10重量份含有苯并恶唑或苯并噻唑基团的肟酯类化合物和100重量份含烯键不饱和化合物。

9.根据权利要求7或8所述的用途，其特征在于：所述含烯键不饱和化合物是指烯键通过自由基聚合反应被交联的化合物或混合物；

所述含烯键不饱和化合物选自单体、低聚物或预聚物，或是三者的混合物或共聚物，或是三者的水性分散体。