[发明专利]一种手机后盖的彩色镀膜

说明书

本发明属于彩色镀膜领域，尤其公开了一种手机后盖的彩色镀膜，现提出如下方案，由以下重量份的原料组成：Nb₂O₅靶材溅射材料6.0‑7.0份、SiO₂靶材溅射材料48.0‑52.0份、丝印黑色油墨100‑1000份；该彩色镀膜的具体镀膜方法如下：设置磁控溅射真空镀膜系统的参数，控制所需的颜色膜系搭配膜厚比，连续溅射三层靶材溅射材料，其中，第一层溅射Nb₂O₅靶材溅射材料，第二层溅射SiO₂靶材溅射材料，第三层溅射Nb₂O₅靶材溅射材料，在溅射镀膜后，在完成镀膜后的手机后盖基板上上丝印黑色油墨。本发明通过不同膜厚比在丝印黑色油墨上可显示不同的颜色，成分简单，成本低，可以进行大批量生产。

技术领域

本发明涉及彩色镀膜技术领域，尤其涉及一种手机后盖的彩色镀膜。

背景技术

现有的真空镀膜工艺只能在真空镀膜单体机上工作，只能进行小批量生产，而真空磁控连续性能进行大批量连续性生产的彩色镀膜，现有的彩色镀膜成分复杂，为此，本发明提出一种手机后盖的彩色镀膜。

发明内容

本发明的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种手机后盖的彩色镀膜。

为了实现上述目的，本发明采用了如下技术方案：

一种手机后盖的彩色镀膜，由以下重量份的原料组成：Nb₂O₅靶材溅射材料6.0-7.0份、SiO₂靶材溅射材料48.0-52.0份、丝印黑色油墨100-1000份；该彩色镀膜的具体镀膜方法如下：

S1，首先准备磁控溅射真空镀膜系统，将上述重量份的Nb₂O₅靶材溅射材料、SiO₂靶材溅射材料安装在磁控溅射真空镀膜系统中，然后准备手机后盖基板，也将手机后盖基板安装在磁控溅射真空镀膜系统中；

S2，设置磁控溅射真空镀膜系统的参数，控制所需的颜色膜系搭配膜厚比，连续溅射三层靶材溅射材料，其中，第一层溅射Nb₂O₅靶材溅射材料，第二层溅射SiO₂靶材溅射材料，第三层溅射Nb₂O₅靶材溅射材料；

S3，在溅射镀膜后，在完成镀膜后的手机后盖基板上上丝印黑色油墨；待油墨干燥后，手机后盖的彩色镀膜完成。

优选的，由以下重量份的原料组成：Nb₂O₅靶材溅射材料6.3-6.7份、SiO₂靶材溅射材料49.0-51.0份、丝印黑色油墨300-700份。

优选的，由以下重量份的原料组成：Nb₂O₅靶材溅射材料6.5份、SiO₂靶材溅射材料50.0份、丝印黑色油墨550份。

优选的，所述手机后盖基板采用PC符合板材。

优选的，所述第一层镀膜的厚度为2.8-3.2nm，第二层镀膜的厚度为48-52nm，第三镀膜的厚度为3.2-3.8nm。

优选的，所述第一层镀膜的厚度为3.0nm，第二层镀膜的厚度为50nm，第三镀膜的厚度为3.5nm。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：通过不同膜厚比在丝印黑色油墨上可显示不同的颜色，成分简单，成本低，可以进行大批量生产。

具体实施方式

下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。