[发明专利]一种光照射装置

权利要求书

1.一种光照射装置，其特征在于，用于光配向设备、光固化设备、印刷设备或光清洗设备中，包括：

线状光源；

多个反射单元，多个所述反射单元围绕所述线状光源形成反射腔，所述反射腔包括出光口，所述线状光源位于所述反射腔内，所述反射单元的反射面朝向所述线状光源，所述线状光源出射的部分光束经过至少一个所述反射单元反射后从所述出光口出射；

多个第一探测单元，与所述反射单元一一对应，所述第一探测单元用于测量入射到对应的所述反射单元的光束的入射角和第一能量分布；

多个旋转单元，与所述反射单元一一对应并固定连接，所述旋转单元用于带动所述反射单元旋转；

第二探测单元，设置于所述反射腔的出光口，所述第二探测单元用于测量所述出光口的出射光束的出射角和第二能量分布；

控制单元，分别与所述第一探测单元、所述第二探测单元和所述旋转单元连接，所述控制单元用于获取所述入射角、所述第一能量分布、所述出射角和所述第二能量分布的数据，并根据预设出射角、预设能量分布、所述入射角、所述第一能量分布、所述出射角和所述第二能量分布的数据控制所述旋转单元旋转与所述旋转单元对应的所述反射单元，以使所述出光口的出射光束以所述预设出射角和所述预设能量分布出射；

偏振控制单元，位于所述第二探测单元的出光侧，用于调节所述出光口的出射光束的偏振态；

所述出光口的延伸方向平行于所述线状光源的延伸方向；

所述第二探测单元的延伸方向垂直于所述出光口的延伸方向；所述偏振控制单元的延伸方向垂直于所述出光口的延伸方向；

所述第二探测单元在沿所述第二探测单元的延伸方向上的长度为L1；所述出光口在沿垂直于所述出光口的延伸方向上的长度为L2；所述偏振控制单元在沿所述偏振控制单元的延伸方向上的长度为L3；L1L2L3；

其中，所述反射单元的数量为大于或等于4的偶数，且关于所述线状光源呈轴对称分布。

2.根据权利要求1所述的光照射装置，其特征在于，所述第一探测单元包括第一角度探测单元和第一能量探测单元，所述第一角度探测单元用于测量入射到所述反射单元的光束的入射角，所述第一能量探测单元用于测量入射到所述反射单元的光束的第一能量分布；

所述第二探测单元包括第二角度探测单元和第二能量探测单元，所述第二角度探测单元用于测量所述出光口的出射光束的出射角，所述第二能量探测单元用于测量所述出光口的出射光束的第二能量分布。

3.根据权利要求1所述的光照射装置，其特征在于，所述反射单元包括平面反射镜、抛物面反射镜、球面反射镜或椭球面反射镜的至少一种。

4.根据权利要求1所述的光照射装置，其特征在于，所述反射单元的反射面镀有反射膜。