[发明专利]一种结构光测距方法、装置及计算机可读存储介质有效

专利信息
申请号: 201910362864.0 申请日: 2019-04-30
公开(公告)号: CN110231018B 公开(公告)日: 2021-02-26
发明(设计)人: 刘龙 申请(专利权)人: 奥比中光科技集团股份有限公司
主分类号: G01C11/00 分类号: G01C11/00;G01C11/14;G06T7/00;G06T7/55
代理公司: 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 代理人: 孟学英
地址: 518000 广东省深圳市南山区粤*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 结构 测距 方法 装置 计算机 可读 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种结构光测距方法,其特征在于,包括如下步骤:

以预设投影频率和采集频率,向待测空间投射结构光并采集多帧图像,所述多帧图像至少包括第一图像和第二图像,所述第一图像包括环境光信息,所述第二图像包括环境光信息和结构光信息;

将所述第一图像像素的第一灰度值与所述第二图像像素的第二灰度值进行比较;

当所述第一灰度值小于所述第二灰度值时,将所述第二图像像素的第二灰度值与所述第一图像像素的第一灰度值进行差分处理并获取差值,同时将所述差值作为当前第二图像像素的灰度值;当所述第一灰度值大于或等于所述第二灰度值时,将所述第二灰度值作为所述当前第二图像像素的灰度值;

计算所述当前第二图像的深度信息。

2.如权利要求1所述的结构光测距方法,其特征在于,还包括步骤:遍历并计算所述第一图像各个像素的灰度值与所述第二图像同一像素的灰度值,并将所述第一图像各个像素的灰度值与所述第二图像同一像素的灰度值逐个进行比较。

3.如权利要求1所述的结构光测距方法,其特征在于,还包括步骤:

将所述第一灰度值、所述第二灰度值分别与预设第一灰度值阈值进行比较;

当所述第一灰度值大于所述第一灰度值阈值时,对所述第一图像进行负曝光补偿;当所述第二灰度值大于所述第一灰度值阈值时,对所述第二图像进行负曝光补偿。

4.如权利要求1所述的结构光测距方法,其特征在于,还包括步骤:

将所述第一灰度值、所述第二灰度值分别与预设第二灰度值阈值进行比较;

当所述第一灰度值小于所述预设第二灰度值阈值时,对所述第一图像进行正曝光补偿;当所述第二灰度值小于所述预设第二灰度值阈值时,对所述第二图像进行正曝光补偿。

5.如权利要求1所述的结构光测距方法,其特征在于,所述投影频率与所述采集频率比值范围包括[1/2,1)。

6.一种结构光测距装置,其特征在于,包括:

投影模组:以预设投影频率向待测空间投射多帧图像,其中,所述多帧图像至少包括第一图像和第二图像,所述第一图像包括环境光信息,所述第二图像包括环境光信息和结构光信息;

采集模组:以预设采集频率采集所述多帧图像;

处理器:分别与所述投影模组和所述采集模组连接,用于控制所述投影模组和所述采集模组的正常工作,以及

用于接收所述第一图像与所述第二图像,并将所述第一图像像素的第一灰度值与所述第二图像像素的第二灰度值进行比较;

用于当所述第一灰度值小于所述第二灰度值时,将所述第二图像像素的第二灰度值与所述第一图像像素的第一灰度值进行差分处理并获取差值,同时将所述差值作为当前第二图像像素的灰度值;当所述第一灰度值大于或等于所述第二灰度值时,将所述第二灰度值作为所述当前第二图像像素的灰度值;

用于计算所述当前第二图像的深度信息。

7.如权利要求6所述的结构光测距装置,其特征在于,所述处理器还用于遍历并计算所述第一图像各个像素的灰度值与所述第二图像同一像素的灰度值,并将所述第一图像各个像素的灰度值与所述第二图像同一像素的灰度值逐个进行比较。

8.如权利要求6所述的结构光测距装置,其特征在于,所述处理器还用于将所述第一灰度值、所述第二灰度值分别与预设第一灰度值阈值进行比较;

当所述第一灰度值大于所述第一灰度值阈值时,对所述第一图像进行负曝光补偿;当所述第二灰度值大于所述第一灰度值阈值时,对所述第二图像进行负曝光补偿。

9.如权利要求6所述的结构光测距装置,其特征在于,所述处理器还用于将所述第一灰度值、所述第二灰度值分别与预设第二灰度值阈值进行比较;

当所述第一灰度值小于所述预设第二灰度值阈值时,对所述第一图像进行正曝光补偿;当所述第二灰度值小于所述预设第二灰度值阈值时,对所述第二图像进行正曝光补偿。

10.一种计算机可读存储介质,所述计算机可读存储介质存储有计算机程序,其特征在于,所述计算机程序被处理器执行时实现如权利要求1~5任一项所述方法的步骤。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于奥比中光科技集团股份有限公司,未经奥比中光科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910362864.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top