[发明专利]一种蒸发源装置有效

专利信息
申请号: 201910363036.9 申请日: 2019-04-30
公开(公告)号: CN110042345B 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: 肖世艳;彭久红 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 蒸发 装置
【说明书】:

发明提供一种蒸发源装置,包括:主坩埚组件,包括多个倾斜排列的主坩埚,每一所述主坩埚均包括N个喷嘴;以及,补位坩埚组件,包括N‑1个补位坩埚,所述补位坩埚组件的喷嘴的连线形成直角三角形,以将所述主坩埚组件的喷嘴阵列填补为矩形方阵;本发明中坩埚组件提升坩埚内材料切换速度和设备保养效率,任意相邻每一排和每一列的喷嘴用于喷出的蒸镀材料种类均相同,且任意相邻的两个喷嘴用于喷出不相同的蒸镀材料,提升蒸镀材料间均一性,从而在基板上形成多种蒸镀材料种类和比例分布均匀的膜层,围绕蒸发源装置轮廓上设置有多层制限板,有效控制了蒸镀成膜区,利于保证器件结构的完整和性能,同时可通过增加蒸镀成膜区以提高蒸镀材料的利用率。

技术领域

本发明涉及显示面板制造技术领域,尤其涉及一种蒸发源装置。

背景技术

蒸镀制程在液晶显示器组件、半导体组件及太阳能电池组件制作过程中受到了广泛的应用,为了将制作过程中所使用的蒸镀材料均匀涂布于基板,一般是将基板设置于坩埚喷嘴的上方,借助加热丝将坩埚内的蒸镀材料加热,形成蒸汽,以均匀地附着在基板上,获得高品质的膜层。

如图1a所示,现有技术的蒸发源装置,从俯视图看,主坩埚1、辅助坩埚2和主坩埚3形状相同,呈长圆形,坩埚的长边垂直于蒸镀气体扫描的方向,多个喷嘴10,喷嘴20,喷嘴30呈阵列分布;如图1b所示,围绕主坩埚1、辅助坩埚2和主坩埚3分别设置有制限板,从纵向截面图上,喷嘴10周围有制限板4,喷嘴20周围有制限板5,喷嘴30周围有制限板6,制限板4、制限板5和制限板6为倾斜的板材,外围均设置有支架,内侧与相邻的喷嘴保持预设距离,喷嘴之间两侧相邻的虚线之间区域为该喷嘴的有效喷射区域;如图1c所示,主坩埚1、辅助坩埚2和主坩埚3分别存放蒸镀材料40、蒸镀材料50和蒸镀材料60,当成膜位置大于或等于600mm时,基板上只蒸镀有辅助材料50,当成膜位置小于或等于100mm时,基板上只蒸镀材料50和蒸镀材料60,当成膜位置位于100mm到550mm区域内时,基板上蒸镀材料40、蒸镀材料50和蒸镀材料60形成多层膜,且膜层中三种材料比例不相等,分布位置不均匀。

综上所述,现有技术的蒸发源装置中不同蒸镀材料蒸镀到基板时,存在先后顺序,蒸镀材料种类和比例在蒸镀区域中分布集中,造成基板上形成多层膜,且膜层中蒸镀材料分布和比例不均匀,每个坩埚设置了制限板,缩小喷嘴的喷射区域,导致两侧喷嘴喷射到基板两端的蒸镀材料较少,制限板的高度较低,造成一些材料未喷射到基板上,降低了蒸镀材料的利用率,且集成式坩埚造成材料更换、保养困难、耗时长的技术问题。

发明内容

本发明提供一种蒸发源装置,能够解决现有技术的蒸发源装置中不同蒸镀材料蒸镀到基板时,存在先后顺序,蒸镀材料种类和比例在蒸镀区域中分布集中,造成基板上形成多层膜,且膜层中蒸镀材料分布和比例不均匀,每个坩埚设置了制限板,缩小喷嘴的喷射区域,导致两侧坩埚的喷嘴喷射到基板两端的蒸镀材料较少,制限板的高度较低,造成一些材料未喷射到基板上,降低了蒸镀材料的利用率,且集成式坩埚造成材料更换、保养困难、耗时长的技术问题。

为解决上述问题,本发明提供的技术方案如下:

一种蒸发源装置包括:主坩埚组件,包括多个倾斜排列的主坩埚,每一所述主坩埚均包括N个喷嘴,所述主坩埚组件的喷嘴阵列分布形成平行四边形;以及,补位坩埚组件,包括N-1个补位坩埚,所述补位坩埚组件的喷嘴的连线形成直角三角形,以将所述主坩埚组件的喷嘴阵列填补为矩形方阵;其中,所述矩形方阵中任意相邻每一排和每一列的喷嘴用于喷出的蒸镀材料种类均相同,且任意相邻的两个喷嘴用于喷出不相同的蒸镀材料。

根据本发明一优选实施例,所有所述主坩埚的形状相同,任意相邻所述主坩埚沿着纵向等间距、平行设置。

根据本发明一优选实施例,所述主坩埚倾斜排列的方向与纵向呈预设角度α,且0°<α<90°。

根据本发明一优选实施例,所述补位坩埚的倾斜角度与所述主坩埚的倾斜角度相同。

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