[发明专利]一种晶圆缺陷检测装置及方法有效
申请号: | 201910363691.4 | 申请日: | 2019-04-30 |
公开(公告)号: | CN111855662B | 公开(公告)日: | 2023-07-25 |
发明(设计)人: | 王通;王潇斐 | 申请(专利权)人: | 芯恩(青岛)集成电路有限公司 |
主分类号: | G01N21/88 | 分类号: | G01N21/88;G01N21/95 |
代理公司: | 北京汉之知识产权代理事务所(普通合伙) 11479 | 代理人: | 陈敏 |
地址: | 266555 山东省青岛市黄岛区*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 缺陷 检测 装置 方法 | ||
1.一种晶圆缺陷检测装置,其特征在于,所述检测装置至少包含:
光源;
晶圆,所述晶圆包括沿第一方向延伸排列的多个第一晶粒,所述晶圆还包括沿第一方向延伸排列的多个第二晶粒,所述多个第二晶粒沿第二方向与所述多个第一晶粒相邻或间隔排列;其中,所述第一方向与所述第二方向相互垂直;
至少一个分光镜,所述至少一个分光镜包括第一分光镜,所述第一分光镜将所述光源发射的光线分成第一光束和第二光束;
第一偏光镜,所述第一偏光镜用于反射所述第一光束,所述第一光束照射所述晶圆上的所述第一晶粒;
第二偏光镜,所述第二偏光镜用于反射所述第二光束,所述第二光束照射所述晶圆上的所述第二晶粒;
图像传感装置,所述图像传感装置用于获取所述第一晶粒和所述第二晶粒的图像;以及
传动装置,所述传动装置使所述第一偏光镜和所述第二偏光镜分别与所述第一晶粒和所述第二晶粒同时产生沿所述第一方向的同向相对移动。
2.根据权利要求1所述的检测装置,其特征在于,所述晶圆还包括沿第一方向延伸排列的多个第三晶粒,所述多个第三晶粒沿第二方向与所述多个第一晶粒和所述多个第二晶粒相邻或间隔排列;所述至少一个分光镜还包括第二分光镜,所述第二分光镜将所述光源发射的光线的一部分反射或者折射成第三光束;所述图像传感装置还用于获取所述第三晶粒的图像;
所述检测装置还包括:第三偏光镜,所述第三偏光镜用于反射所述第三光束,所述第三光束照射所述晶圆上的所述第三晶粒;所述传动装置使所述第一偏光镜、所述第二偏光镜和所述第三偏光镜分别与所述第一晶粒、所述第二晶粒和所述第三晶粒同时产生沿所述第一方向的相对移动。
3.一种晶圆缺陷检测装置,其特征在于,所述检测装置至少包含:
光源;
至少一个晶圆,所述至少一个晶圆至少包括第一晶圆和第二晶圆,所述第一晶圆包括沿第一方向延伸排列的多个第一晶粒,所述第一晶圆还包括沿第一方向延伸排列的多个第二晶粒,所述多个第二晶粒沿第二方向与所述多个第一晶粒相邻或间隔排列;其中,所述第一方向与所述第二方向相互垂直;
所述第二晶圆包括沿第一方向延伸排列的多个第三晶粒,所述第二晶圆还包括沿第一方向延伸排列的多个第四晶粒,所述多个第四晶粒沿第二方向与所述多个第三晶粒相邻或间隔排列;
至少一个分光镜,所述至少一个分光镜将所述光源发射的光线分成至少第一光束、第二光束、第三光束和第四光束;
至少一个偏光镜,所述至少一个偏光镜包括第一偏光镜、第二偏光镜、第三偏光镜和第四偏光镜,所述第一偏光镜、第二偏光镜、第三偏光镜和第四偏光镜用于分别反射所述第一光束、第二光束、第三光束和第四光束,所述第一光束、第二光束、第三光束和第四光束分别照射所述第一晶粒、第二晶粒、第三晶粒和第四晶粒;
图像传感装置,所述图像传感装置用于获取所述第一晶粒、第二晶粒、第三晶粒和第四晶粒的图像;以及
传动装置,所述传动装置使所述第一偏光镜、第二偏光镜、第三偏光镜和第四偏光镜分别与所述第一晶粒、第二晶粒、第三晶粒和第四晶粒同时产生沿所述第一方向的同向相对移动。
4.根据权利要求1-3任一项所述的检测装置,其特征在于,所述光源包括同轴光源或者采用暗场照明方式。
5.根据权利要求1-3任一项所述的检测装置,其特征在于,所述光源包括氙灯、卤素灯、LED或者激光光源。
6.根据权利要求1-3任一项所述的检测装置,其特征在于,所述图像传感装置包括图像传感器,用于捕捉所述晶粒的图像。
7.根据权利要求6所述的检测装置,其特征在于,所述图像传感装置还包括镜头,用于将所述晶粒放大并聚焦到所述图像传感器。
8.根据权利要求1-3任一项所述的检测装置,其特征在于,所述分光镜包括平面型分光镜。
9.根据权利要求1-3任一项所述的检测装置,其特征在于,所述分光镜包括非偏振型分光镜。
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