[发明专利]一种用于评估黑矩阵的阈值曲线的拟合方法、黑矩阵的评估方法有效
申请号: | 201910364010.6 | 申请日: | 2019-04-30 |
公开(公告)号: | CN109920356B | 公开(公告)日: | 2022-07-01 |
发明(设计)人: | 王永垚;苏秋杰;高玉杰;朱宁;缪应蒙 | 申请(专利权)人: | 北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G09G3/00 | 分类号: | G09G3/00 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100176 北京市大兴*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 评估 矩阵 阈值 曲线 拟合 方法 | ||
本发明的实施例提供一种用于评估黑矩阵的阈值曲线的拟合方法、黑矩阵的评估方法,涉及显示技术领域,可提高评估黑矩阵的准确性。一种用于评估黑矩阵的阈值曲线的拟合方法,包括由每个样品的黑矩阵包括的多个沿每个样品的长度方向或宽度方向延伸的遮光条的宽度、亚像素的宽度,得到对比敏感度值;遮光条均具有N种宽度,N≥2;至少部分样品中遮光条的宽度与其他样品中遮光条的宽度不完全相等;得到不同观测距离下样品对应的空间频率值;将同一环境亮度以及对应的观测距离下每个样品暗线的可见或不可见情况标注在以空间频率为横坐标,对比敏感度值为纵坐标的坐标系中;拟合阈值曲线,使标识可见或不可见情况的坐标点分别位于阈值曲线的两侧。
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种用于评估黑矩阵的阈值曲线的拟合方法、黑矩阵的评估方法。
背景技术
为了提高显示面板开口率,不同的亚像素之间的黑矩阵设计为至少两种不同的宽度,并周期性重复。但是,多种黑矩阵宽度可能带来视觉上的宏观效应,使得显示面板出现的明暗相间的暗线。因此,在显示面板的版图设计时,需要对该暗线出现的风险进行评估。
发明内容
本发明的实施例提供一种用于评估黑矩阵的阈值曲线的拟合方法、黑矩阵的评估方法,可提高评估黑矩阵的准确性。
为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
第一方面,提供一种用于评估黑矩阵的阈值曲线的拟合方法,包括:根据多个样品显示面板中每个样品的黑矩阵包括的多个沿第一方向延伸的遮光条的宽度、亚像素的宽度,计算得到每个样品的对比敏感度值;其中,多个所述样品中的沿所述第一方向延伸的所述遮光条均具有N种宽度,N≥2;至少部分所述样品中所述遮光条的宽度,与其他所述样品中所述遮光条的宽度不完全相等;所述第一方向为每个所述样品的长度方向,或者,所述第一方向为每个所述样品的宽度方向;根据多个所述样品以及不同的观测距离,计算得到在不同观测距离下所述样品对应的空间频率值;针对每个所述样品,将在同一环境亮度以及对应的观测距离下,人眼观测所述样品的暗线的可见或不可见情况,标注在以空间频率为横坐标,对比敏感度值为纵坐标的坐标系中;拟合阈值曲线,使用于标识可见情况的坐标点和用于标识不可见情况的坐标点分别位于所述阈值曲线的两侧。
可选的,根据每个样品的黑矩阵包括的多个沿第一方向延伸的遮光条的宽度、亚像素的宽度,计算得到每个样品的对比敏感度值,包括:
针对每个所述样品,根据所述样品的黑矩阵包括的多个沿所述第一方向延伸的所述遮光条的宽度、亚像素的宽度,以及所述样品中不同颜色的亚像素的亮度比,得到与所述样品对应的连续的亮度分布曲线;所述亮度分布曲线的横坐标为宽度,纵坐标为亮度;根据所述亮度分布曲线,得到与所述样品对应的频域谱;根据所述样品的频域谱中的暗线周期对应的绝对空间频率的分量谱值以及直流分量谱值,计算得到所述样品的对比敏感度值;其中,所述对比敏感度值=(所述样品的频域谱中的暗线周期对应的绝对空间频率的分量谱值/直流分量谱值)×2×100%。
在此基础上,可选的,根据所述样品的黑矩阵包括的多个沿所述第一方向延伸的遮光条的宽度、亚像素的宽度,以及所述样品中不同颜色的亚像素的亮度比,得到与所述样品对应的亮度分布曲线,包括:根据所述样品的黑矩阵包括的多个沿所述第一方向延伸的所述遮光条的宽度、亚像素的宽度,得到所述样品的黑矩阵包括的多个沿所述第一方向延伸的所述遮光条的宽度以及亚像素宽度的整数比值;根据所述样品的黑矩阵包括的多个沿所述第一方向延伸的所述遮光条宽度以及亚像素宽度的整数比值、所述样品中不同颜色的亚像素的亮度比,得到与所述样品对应的亮度分布曲线。
可选的,所述不同颜色包括第一颜色、第二颜色和第三颜色,且第一颜色、第二颜色和第三颜色为三基色;所述样品中不同颜色的亚像素的亮度比,通过在单色第一颜色且灰阶为中间灰阶、单色第二颜色且灰阶为中间灰阶、单色第三颜色且灰阶为中间灰阶下,测试的所述样品的亮度值得到。
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