[发明专利]一种除偏振片碘分子层的方法

权利要求书

1.一种除偏振片碘分子层的方法，其特征在于，包括：

将碘性偏振片放置在精密加工平台上，开启皮秒激光设备准备对所述碘性偏振片进行加工；

调整所述皮秒激光设备的激光，将激光焦距设置在所述碘性偏振片的表面处；

将结构图档导入到所述皮秒激光设备上，对所述皮秒激光设备的加工参数进行设置，所述结构图档中记录了所述碘性偏振片的加工结构形状以及尺寸；

将所述皮秒激光设备产生的激光照射到所述碘性偏振片上，根据所述结构图档中的加工结构形状以及尺寸，控制所述激光的加工路径对所述碘性偏振片进行加工。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

所述碘性偏振片为黑白类的碘性偏振片，所述碘性偏振片的基材为具有网状结构的高分子化合物聚乙烯醇薄膜。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，

所述碘性偏振片的制作流程包括：

将碘性偏振片的基材浸染具有强烈的二向色性的碘液；

将浸染碘液后的基材通过硼酸水溶液进行还原稳定；

将还原稳定后的基材拉伸N倍，得到所述碘性偏振片，所述N为大于1的整数。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

所述结构图档还包括：去除碘分子区域的图档信息。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

所述将碘性偏振片放置在精密加工平台上，包括：

将所述碘性偏振片平整地悬空于所述精密加工平台上，所述碘性偏振片的两端用固定块将所述碘性偏振片夹紧。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

所述将碘性偏振片放置在精密加工平台上，包括：

将所述碘性偏振片平整地放置于所述精密加工平台上，用玻璃盖板一侧面增加压敏胶，将所述碘性偏振片沾附上去，利用玻璃的强度和高透光特性来实现加工固定。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

所述加工参数包括：打标速度，空跳速度，基础频率，Q释放，激光功率，填充间隔以及填充角度。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，

所述对所述皮秒激光设备的加工参数进行设置，包括：

所述打标速度设置为900-1400mm/s，

所述空跳速度设置为1000-3000mm/s，

所述基础频率设置为400-900KHz，

所述Q释放设置为1-1.5us，

所述激光功率设置为8.25-10.7W，

所述填充间隔设置为0.01-0.03mm，

所述填充角度设置为0度或90度。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

所述将激光焦距设置在所述碘性偏振片的表面处之后，还包括：

校正所述皮秒激光设备的激光加工的范围尺寸。

10.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

所述控制所述激光的加工路径对所述碘性偏振片进行加工之后，还包括：

在所述皮秒激光设备去除了所述碘性偏振片的碘分子层之后，使用抽风机装置去除所述碘性偏振片在加工过程中产生的粉尘颗粒。