[发明专利]一种波像差测量装置及光刻机有效
| 申请号： | 201910365328.6 | 申请日： | 2019-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN111856885B | 公开（公告）日： | 2021-08-03 |
| 发明（设计）人： | 夏建培;马明英 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 波像差 测量 装置 光刻 | ||
1.一种波像差测量装置，包括照明系统，以及沿所述照明系统发出的光的光路依次排列的包括物面光栅的物面光栅板、投影物镜、包括像面光栅的像面光栅板以及光电探测器，其特征在于，所述波像差测量装置还包括：
所述物面光栅板和所述像面光栅板均为透明光栅板；
所述物面光栅由多个间隔均匀的凸起部或凹陷部排列组成，所述凸起部的高度或所述凹陷部的深度为d；
所述像面光栅由多个间隔均匀的凸起部或凹陷部排列组成，所述凸起部的高度或所述凹陷部的深度为d；
其中，d＝λ(k+1/2)/(n折-1)，λ为入射光的波长，k为正整数，n折为对应光栅板的折射率。
2.根据权利要求1所述的波像差测量装置，其特征在于，所述物面光栅为一维条状光栅，所述像面光栅为二维棋盘状光栅。
3.根据权利要求1所述的波像差测量装置，其特征在于，所述物面光栅板和所述像面光栅板的形成材料在深紫外光波段的折射率取值范围为1.1～1.8。
4.根据权利要求3所述的波像差测量装置，其特征在于，所述物面光栅板和所述像面光栅板的形成材料为石英玻璃。
5.根据权利要求1所述的波像差测量装置，其特征在于，所述像面光栅板和光电探测器之间设置有一间隙。
6.根据权利要求5所述的波像差测量装置，其特征在于，所述间隙的高度取值范围为0.1～0.8mm。
7.根据权利要求1所述的波像差测量装置，其特征在于，所述光电探测器包括CMOS采集芯片以及涂覆于所述CMOS采集芯片靠近所述像面光栅板一侧的荧光转换层。
8.根据权利要求1所述的波像差测量装置，其特征在于，所述物面光栅的周期与所述像面光栅的周期之比等于所述投影物镜的缩小倍数或放大倍数。
9.根据权利要求8所述的波像差测量装置，其特征在于，所述物面光栅的周期为4.5μm。
10.一种光刻机，其特征在于，包括上述权利要求1-9任一项所述的波像差测量装置。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司，未经上海微电子装备(集团)股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910365328.6/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
