[发明专利]彩膜基板及其制作方法和显示装置

权利要求书

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：

衬底基板；

黑矩阵，设置于所述衬底基板的表面，并在所述衬底基板上限定出多个第一透光区域、多个第二透光区域和多个第三透光区域；

色阻层，包括第一色阻、第二色阻和第三色阻，所述第一色阻、所述第二色阻和所述第三色阻分别设置于所述第一透光区域、所述第二透光区域和所述第三透光区域，所述第一色阻覆盖相邻的两个第一透光区域之间的黑矩阵，所述第二色阻覆盖相邻的两个第二透光区域之间的黑矩阵，相邻的两个第三透光区域中的第三色阻通过所述黑矩阵间隔开，其中，所述第三色阻的透光率小于所述第一色阻的透光率以及所述第二色阻的透光率；以及

公共电极层，设置在所述色阻层背向所述黑矩阵的一侧。

2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，还包括保护层，所述黑矩阵、所述色阻层、所述公共电极层和所述保护层设置在所述衬底基板的同一侧，所述保护层设置于所述公共电极层面向阵列基板的一侧。

3.如权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，还包括隔垫物，所述隔垫物设置于所述保护层面向所述阵列基板的一侧。

4.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述隔垫物包括主隔垫物和副隔垫物，其中所述主隔垫物的高度大于所述副隔垫物的高度。

5.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一色阻为红色色阻，所述第二色阻为绿色色阻，所述第三色阻为蓝色色阻。

6.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上形成黑矩阵，所述黑矩阵在所述衬底基板上限定出多个第一透光区域、多个第二透光区域和多个第三透光区域；

在形成所述黑矩阵的衬底基板上形成色阻层，所述色阻层包括第一色阻、第二色阻和第三色阻，所述第一色阻、所述第二色阻和所述第三色阻分别设置于所述第一透光区域、所述第二透光区域和所述第三透光区域，所述第一色阻覆盖相邻的两个第一透光区域之间的黑矩阵，所述第二色阻覆盖相邻的两个第二透光区域之间的黑矩阵，相邻的两个第三透光区域中的第三色阻通过所述黑矩阵间隔开，其中，所述第三色阻的透光率小于所述第一色阻的透光率以及所述第二色阻的透光率；

在形成所述色阻层的衬底基板上形成公共电极层。

7.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述在形成所述黑矩阵的衬底基板上形成所述色阻层，包括：

在形成所述黑矩阵的衬底基板上涂布第一色阻材料、第二色阻材料和第三色阻材料；

通过曝光显影工艺，刻蚀掉相邻的两个第三透光区域之间的第三色阻。

8.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于，还包括：在形成所公共电极层的衬底基板上形成保护层，所述保护层设置于所述公共电极层面向阵列基板的一侧。

9.如权利要求8所述的制作方法，其特征在于，还包括：在形成所保护层的衬底基板上形成隔垫物，所述隔垫物设置于所述保护层面向所述阵列基板的一侧。

10.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括相对设置的彩膜基板和阵列基板，以及设置在所述彩膜基板和所述阵列基板之间的液晶层，其中，所述彩膜基板为权利要求1～5任一权项所述的彩膜基板。