[发明专利]一种加压素[4-Glu,5-Asp]杂质的精制方法

权利要求书

1.一种加压素[4-Glu，5-Asp]杂质的精制方法，其特征在于，其包括如下步骤：采用高效液相反相色谱法将加压素[4-Glu，5-Asp]杂质粗品溶液依次进行反相富集、反相转盐、反相纯化，即可；

所述的加压素[4-Glu，5-Asp]杂质粗品溶液中加压素[4-Glu，5-Asp]杂质的结构式为

所述的高效液相反相色谱法的填料为超耐水填料，所述超耐水填料为ODS-AQ超耐水填料；

所述的反相富集、反相转盐、反相纯化均是在一步反相洗脱过程中完成，所述的反相富集、反相转盐、反相纯化的条件如下：

其中，流动相A为体积百分比为0.005～0.1％的乙酸/水，流动相B为体积百分比为0.005～0.1％的乙酸/乙腈，样品C1为所述的加压素[4-Glu，5-Asp]杂质粗品溶液，流动相C2为5～50mM NH₄Ac-NH₄OH水溶液，所述流动相C2的pH为7.0～9.0，流速为80～100ml/min；

收集保留时间为87～96min的洗脱液即得加压素[4-Glu，5-Asp]杂质溶液。

2.如权利要求1所述的加压素[4-Glu，5-Asp]杂质的精制方法，其特征在于：所述的加压素[4-Glu，5-Asp]杂质粗品溶液为固相合成的还原型加压素[4-Glu，5-Asp]杂质粗品经溶解、稀释、氧化而得。

3.如权利要求2所述的加压素[4-Glu，5-Asp]杂质的精制方法，其特征在于：所述的还原型加压素[4-Glu，5-Asp]杂质粗品经溶解、稀释得还原型加压素[4-Glu，5-Asp]杂质粗品溶液，所述的还原型加压素[4-Glu，5-Asp]杂质粗品溶液中还原型加压素[4-Glu，5-Asp]杂质粗品的浓度为0.1～4mg/ml；溶解所述还原型加压素[4-Glu，5-Asp]杂质粗品的溶剂为体积百分比为50％的乙酸/水溶液。

4.如权利要求3所述的加压素[4-Glu，5-Asp]杂质的精制方法，其特征在于：所述的还原型加压素[4-Glu，5-Asp]杂质粗品溶液中还原型加压素[4-Glu，5-Asp]杂质粗品的浓度为0.5～2mg/ml。

5.如权利要求1所述的加压素[4-Glu，5-Asp]杂质的精制方法，其特征在于：所述的加压素[4-Glu，5-Asp]杂质粗品溶液中的溶剂为含三氟乙酸和乙酸的水溶液。

6.如权利要求1所述的加压素[4-Glu，5-Asp]杂质的精制方法，其特征在于：所述超耐水填料的孔径为7～10nm，粒径为10μm。

7.如权利要求1所述的加压素[4-Glu，5-Asp]杂质的精制方法，其特征在于：所述的高效液相反相色谱法的检测波长为220nm。

8.如权利要求1所述的加压素[4-Glu，5-Asp]杂质的精制方法，其特征在于：所述的流动相A为体积百分比为0.02～0.05％的乙酸/水溶液；

和/或，所述的流动相B为体积百分比为0.02～0.05％的乙酸/乙腈；

和/或，所述的流动相C2为10～20mM NH₄Ac-NH₄OH水溶液；

和/或，所述的流动相C2的pH为7.5～8.5；

和/或，所述的加压素[4-Glu，5-Asp]杂质粗品溶液的HPLC纯度为60～85％；

和/或，所述的收集保留时间为90～93min的洗脱液即为加压素[4-Glu，5-Asp]杂质溶液。

9.如权利要求8所述的加压素[4-Glu，5-Asp]杂质的精制方法，其特征在于：所述的加压素[4-Glu，5-Asp]杂质粗品溶液的HPLC纯度为70％～85％。