[发明专利]回转炉

说明书

本发明涉及一种回转炉，其具有能转动地支承的转筒、马达驱动器、支承装置、材料入口以及材料出口，其中转筒内部空间具有工艺室，所述工艺室的内部气氛与外部气氛分开。根据本发明提出：工艺室借助于第一密封件相对于压力室密封并且压力室借助于第二密封件相对于外部气氛密封，并且能够借助于挤压设备对第一密封件施加第一挤压力并且能够对第二密封件施加第二挤压力，第一挤压力能够独立于第二挤压力设定并且在运行中压力室的内压高于工艺室的内压。

技术领域

本发明涉及一种回转炉，其具有能转动地支承的转筒、马达驱动器、支承装置、材料入口以及材料出口，其中转筒内部空间具有工艺室，所述工艺室的内部气氛与外部气氛分开。

背景技术

回转炉用于对散装货物或件货进行连续热处理。在在此进行的物理或化学工艺中会释放气体和/或粉尘颗粒，所述气体和/或粉尘颗粒不应以不受控制的方式离开回转炉内部中的工艺室。在此，一方面，会期望将所得的气体/粉尘输送给其他的处理步骤。另一方面，气体/粉尘会对环境有害并且必须以受控的方式清除。最后，二次空气相反地进入工艺室中也会是不期望的或危险的。

已知用于回转炉的密封件，所述密封件用于将回转炉的转筒内部空间相对于气氛密封。已知的密封件例如构成为滑动密封件，其中在简单的实施方案中，转动的转筒的一部分伸入到稍大的固定的筒中。在两个筒之间，将滑动密封件固定在较大的筒处并与较大的固定的筒处于滑动接触。可选地，密封环也能够与固定的筒连接并在转筒上滑动。

上述实施方案的缺点是：难以实现气体和/或粉尘密封并且较长时间可靠地保持。借助所提到的构型也难以补偿在运行中出现的变化，即例如转筒在温度波动情况下的长度变化，在运行期间形成的角度误差或磨损。

发明内容

本发明的目的是：提出在开始提到的类型的回转炉，所述回转炉的工艺室相对于外部气氛可靠地密封。

所述目的通过具有独立权利要求的特征的回转炉来实现。本发明的其他的设计方案在从属权利要求中说明。

根据本发明的回转炉具有能转动地支承的转筒、马达驱动器、支承装置、材料入口以及材料出口，其中转筒内部空间具有工艺室，所述工艺室的内部气氛与外部气氛分开。

根据本发明，工艺室借助于第一密封件相对于压力室密封并且压力室借助于第二密封件相对于外部气氛密封。能够借助于挤压设备对第一密封件加载第一挤压力并且能够对第二密封件加载第二挤压力。第一挤压力能够独立于第二挤压力设定。在运行中压力室的内压高于工艺室的内压。

因此，根据本发明设有两个经由压力室彼此连接的密封件，对所述密封件能够分别彼此独立地施加不同的挤压力。这实现对每个密封件单独地地设定挤压力，使得对每个密封件单独地跟踪可能出现的磨损或其他变化，进而随时可实现最佳的密封性。同时，在第一密封件和第二密封件之间存在可施加压力的压力室，所述第一密封件提供工艺室相对于压力室的密封，所述第二密封件相对于外部气氛密封压力室。如果第一密封件完全或部分地失去其密封作用，那么首先压力室的内含物会到达工艺室中。如果现在用相应的气体填充压力室，一方面能够避免不利地影响在压力室中进行的过程并且另一方面能够避免气体和/或粉尘排泄到气氛中或回转炉的直接周围环境中，其中所述气体对于工艺室和在其中进行的物理和/或化学工艺是安全的。

在本发明的后续改进中提出：压力室具有补偿元件。补偿元件例如能够包括适合的气密的材料或适合的薄膜，所述材料或薄膜具有所需要的气密性并且同时适合于在运行中所存在的条件。此外，该补偿元件能够具有适合的机械柔性，以便跟踪压力和体积波动。该补偿元件也能够设计成，使得其能够跟踪几何变化。借助这种补偿元件因此也能够在压力室发生空间/几何变化的情况下获得气密性。这具有的特别的优点是：要施加到密封件上的挤压力会显得更小。

有利地能够提出：压力室至少部分地通过补偿元件限界。因此，补偿元件能够以简单的方式接受/补偿压力室的体积变化和/或压力室限界部的空间/几何变化。