[发明专利]充电辊、墨盒和图像形成装置在审

专利信息
申请号: 201910374095.6 申请日: 2019-05-07
公开(公告)号: CN110471268A 公开(公告)日: 2019-11-19
发明(设计)人: 藤野猛;宫本明典 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03G15/02 分类号: G03G15/02
代理公司: 11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 李英<国际申请>=<国际公布>=<进入国
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 充电辊 表面层 弹性层 墨盒 图像承载构件 图像形成装置 粒径 芯部 充电 承载 图像 配置
【说明书】:

本发明涉及充电辊、墨盒和图像形成装置。一种充电辊,其配置为对承载图像的图像承载构件的表面充电。所述充电辊包括:轴部分;在轴部分周围形成的弹性层;和在弹性层周围形成的表面层,其中颗粒具有2μm或更大且15μm或更小的范围的粒径并分散在表面层中,和其中,与充电辊的表面层相关的突出峰高度Spk(μm)、突出谷深度Svk(μm)以及芯部高度Sk(μm)满足4≤Spk+Sk≤8并且0.5≤Svk≤1。

技术领域

本发明涉及一种在电子照相处理中对图像承载构件充电的充电辊,以及包含所述充电辊的墨盒和图像形成装置。

背景技术

对于在电子照相系统的图像形成装置中对图像承载构件充电的充电单元而言,广泛使用接触充电系统,其将电压施加到与图像承载构件接触的充电辊。已知这种充电辊能够通过平滑其表面来抑制导致图像质量的劣化的异常放电。同时,在充电辊的平滑度太高的情况下,充电辊和附着在图像承载构件上的调色剂等污物之间的接触面积增加,因此,更可能发生污物附着在充电辊上的成膜现象,结果充电辊的寿命有时变短。

以往,已知一种向充电辊赋予适当的表面粗糙度以延长充电辊的寿命并将异常放电抑制到可接受水平或更低水平的技术。日本专利公开No.2010-096267公开了一种充电辊,其表面粗糙度为2-15μm,且其配置为充电辊表面的高度的频率分布中低于该模式的频率之和与等于或高于该模式的频率之和具有预定的比率。上述文献中规定的表面粗糙度是日本工业标准JIS B0601(1994)中定义的十点平均粗糙度Rzjis(ten point height ofroughness profile Rzjis)。根据上述文献,通过将表面粗糙度设定为这样的值,抑制了调色剂颗粒从感光鼓向充电辊的突起部分转移,因此抑制了成膜的发生。

近年来,伴随着用作图像承载构件的感光鼓的耐久性的增加,要求充电辊也长时间保持其性能。根据本发明人的研究,已经发现,不仅由调色剂附着引起的成膜(即调色剂成膜),而且由小于调色剂颗粒的颗粒附着引起的成膜也是问题。小于调色剂颗粒的颗粒的典型实例是添加到显影剂中的外部添加剂。

当从调色剂颗粒脱离的外部添加剂附着到充电辊而引起成膜(即,发生外部添加剂成膜)时,通常在半色调图像中出现高密度条纹图像缺陷。然而,如本发明人的深入研究所发现的,由外部添加剂成膜引起的图像缺陷不能通过上述文献中公开的构造有效地抑制。

发明内容

本发明提供一种充电辊,一种带有充电辊的墨盒,以及一种带有充电辊的图像形成装置,其可以长时间保持图像质量。

根据本发明的一个方面,一种充电辊,其配置为对承载图像的图像承载构件的表面充电。充电辊包括:轴部分;在轴部分周围形成的弹性层;和在弹性层周围形成的表面层,其中颗粒具有2μm或更大且15μm或更小的范围的粒径并且分散在表面层中,和其中与充电辊的表面层相关的突出峰高度(reduced peak height)Spk(μm),突出谷深度(reduceddale height)Svk(μm)以及芯部高度(core height)Sk(μm)满足4≤Spk+Sk≤8并且0.5≤Svk≤1。

根据本发明的另一方面,一种墨盒,包括:可旋转的图像承载构件;和充电辊,其配置为对图像承载构件的表面充电。充电辊包括:轴部分;在轴部分周围形成的弹性层;和在弹性层周围形成的表面层,其中颗粒具有2μm或更大且15μm或更小的范围的粒径并且分散在表面层中,和其中与充电辊的表面层相关的突出峰高度Spk(μm),突出谷深度Svk(μm)以及芯部高度Sk(μm)满足4≤Spk+Sk≤8并且0.5≤Svk≤1。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社,未经佳能株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910374095.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top