[发明专利]一种用于近红外-Ⅱa区成像的方酸聚合物纳米颗粒的制备方法和应用有效
申请号: | 201910374228.X | 申请日: | 2019-05-07 |
公开(公告)号: | CN110038136B | 公开(公告)日: | 2021-08-31 |
发明(设计)人: | 范曲立;孙晓莉;孙鹏飞 | 申请(专利权)人: | 南京邮电大学 |
主分类号: | A61K49/00 | 分类号: | A61K49/00;A61K41/00;A61K9/51;A61K47/34;A61P35/00 |
代理公司: | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人: | 王素琴 |
地址: | 210023 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 红外 成像 聚合物 纳米 颗粒 制备 方法 应用 | ||
1.一种用于近红外-Ⅱa区成像的方酸聚合物纳米颗粒的制备方法,其特征在于:将方酸聚合物溶于有机溶剂中,并将该方酸聚合物有机溶液在超声条件下加入到两亲性三嵌段聚合物F-127的水溶液中,室温下超声混合后制备而成;
所述方酸聚合物的结构式如下:
2.根据权利要求1所述的一种用于近红外-Ⅱa区成像的方酸聚合物纳米颗粒的制备方法,其特征在于:溶解方酸聚合物的有机溶剂选自四氢呋喃或甲苯。
3.根据权利要求1所述的一种用于近红外-Ⅱa区成像的方酸聚合物纳米颗粒的制备方法,其特征在于:所述两亲性三嵌段聚合物F-127的水溶液的浓度为2~4毫克/毫升。
4.根据权利要求1所述的一种用于近红外-Ⅱa区成像的方酸聚合物纳米颗粒的制备方法,其特征在于:所述方酸聚合物有机溶液的浓度为0.25毫克/毫升。
5.根据权利要求1所述的一种用于近红外-Ⅱa区成像的方酸聚合物纳米颗粒的制备方法,其特征在于:所述方酸聚合物与两亲性三嵌段聚合物F-127的质量比为1:8~1:16。
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