[发明专利]图形处理系统和在图形处理系统中处理基元的方法

权利要求书

1.一种图形处理单元，所述图形处理单元被配置为使用被细分为瓦片的渲染空间，所述图形处理单元包括：

处理模块，所述处理模块被配置为处理针对所述渲染空间的瓦片的基元，所述处理包括执行隐藏面消除，其中所述处理模块被配置为在所述隐藏面消除期间、在给定时间具有处理中的多个瓦片。

2.根据权利要求1所述的图形处理单元，其中所述图形处理单元被配置为允许由所述处理模块对基元的所述处理，以当特定瓦片的所述基元中的一些但非全部基元已经完成由所述处理模块处理时，在不同瓦片的基元之间切换。

3.根据权利要求1所述的图形处理单元，其中所述处理模块未被配置为执行瓦片化。

4.根据权利要求1所述的图形处理单元，其中所述处理模块被配置为接收瓦片化数据，所述瓦片化数据能够被用于确定哪些基元将针对给定瓦片而被处理。

5.根据权利要求1所述的图形处理单元，还包括处理引擎，所述处理引擎被配置为执行以下之一或二者：纹理化和阴影化。

6.根据权利要求1所述的图形处理单元，还包括多个深度缓冲器，其中所述深度缓冲器中的每个深度缓冲器被配置为被动态地与在给定时间的、处理中的所述多个瓦片中的相应瓦片相关联。

7.根据权利要求6所述的图形处理单元，其中所述处理模块被配置为通过比较针对所述多个瓦片中的特定瓦片的基元的深度值与被存储在与所述特定瓦片相关联的所述深度缓冲器中的深度值，来针对该基元执行隐藏面消除，同时所述深度缓冲器中的另一深度缓冲器存储针对所述多个瓦片中的不同瓦片的深度值。

8.根据权利要求6所述的图形处理单元，其中与瓦片相关联的深度缓冲器被配置为针对所述瓦片内的每个样本位置存储深度值。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的图形处理单元，其中在给定时间的、处理中的所述多个瓦片在所述渲染空间中彼此相邻。

10.根据权利要求1至8中任一项所述的图形处理单元，其中在给定时间的、处理中的所述多个瓦片在所述渲染空间中彼此不相邻。

11.根据权利要求1至8中任一项所述的图形处理单元，其中处理中的所述多个瓦片来自多于一个渲染表面。

12.根据权利要求1至8中任一项所述的图形处理单元，还包括多个标签缓冲器，所述多个标签缓冲器被配置为被动态地与所述瓦片相关联，以使得所述标签缓冲器中的一个或多个标签缓冲器的集合与特定瓦片相关联，一个或多个标签缓冲器的所述集合被配置为存储标识针对所述特定瓦片内的样本位置的基元的基元标识符。

13.根据权利要求12所述的图形处理单元，其中在与所述特定瓦片相关联的标签缓冲器的所述集合包括多于一个标签缓冲器时，被存储在所述集合的所述标签缓冲器中的对应样本位置处的基元标识符表示基元的重叠层。

14.根据权利要求1至8中任一项所述的图形处理单元，还包括控制模块，所述控制模块被配置为控制哪些基元由所述处理模块处理，以由此控制所述处理模块在针对不同瓦片处理基元之间的切换。

15.根据权利要求14所述的图形处理单元，还包括多个队列，所述多个队列存储针对相应的多个瓦片的基元，其中所述控制模块被配置为选择所述队列中的一个队列，其中来自选择的所述队列的基元由所述处理模块处理。

16.一种在使用被细分为瓦片的渲染空间的图形处理系统中处理基元的方法，所述方法包括：

处理针对所述渲染空间的瓦片的基元，所述处理包括执行隐藏面消除，其中在所述隐藏面消除期间、在给定时间存在处理中的多个瓦片。