[发明专利]一种新型同轴正四棱柱光学隐身器件在审
申请号: | 201910376171.7 | 申请日: | 2019-05-07 |
公开(公告)号: | CN110095830A | 公开(公告)日: | 2019-08-06 |
发明(设计)人: | 阚雪芬;殷澄;张新翠;姚澄;韩庆邦 | 申请(专利权)人: | 河海大学常州校区 |
主分类号: | G02B5/00 | 分类号: | G02B5/00 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 丁涛 |
地址: | 213022 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 直棱柱 结构区 字型 边界区域 光学隐身 中心区域 正四棱柱 回字型 同轴 材料折射率 折射率材料 中心点重合 工作波段 集成器件 科普教育 棱柱侧面 偏振无关 潜在的 折射率 中心点 内层 隐身 侧面 应用 | ||
1.一种新型同轴正四棱柱光学隐身器件,其特征在于,包括直棱柱器件,所述直棱柱器件内部设有“回”字型直棱柱结构区,所述“回”字型直棱柱结构区的侧面与所述直棱柱器件的最外侧棱柱侧面呈45°夹角,且所述直棱柱器件的中心点与所述“回”字型直棱柱结构区的中心点重合,所述 “回”字型直棱柱结构区将整个直棱柱器件分为三个区域,由外层至内层分别为边界区域,回字型区域和中心区域,所述回字型区域内填充的介质材料的折射率低于边界区域和中心区域内填充的介质材料的折射率,所述边界区域和中心区域内填充的介质材料采用同种折射率材料。
2.根据权利要求1所述的一种新型同轴正四棱柱光学隐身器件,其特征在于,所述中心区域的最内层存在一个隐身区域,用于放置被隐身物体。
3.根据权利要求1或2所述的一种新型同轴正四棱柱光学隐身器件,其特征在于,所述边界区域,回字型区域和中心区域的边界材料均采用各向同性、均匀、透明的材料。
4.根据权利要求3所述的新型同轴正四棱柱光学隐身器件,其特征在于,所述“回”字型直棱柱结构区的每一个表面均镀有增透减反膜。
5.根据权利要求4所述的新型同轴正四棱柱光学隐身器件,其特征在于,所述增透减反膜采用多层膜结构。
6.根据权利要求1或4所述的新型同轴正四棱柱光学隐身器件,其特征在于,所述 “回”字型直棱柱结构区的水平截面为正方形。
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