[发明专利]金属有机化合物化学气相沉积反应装置

权利要求书

1.一种金属有机化合物化学气相沉积反应装置，其特征在于，包括：载盘及位于所述载盘下方的加热装置，所述加热装置包括加热丝组件及支撑所述加热丝组件的支架组件，所述加热丝组件包括对应所述载盘的边缘区域设置的外圈加热丝，所述支架组件包括支撑所述外圈加热丝的若干外圈支架，所述外圈支架包括平行设置的两条外圈支撑脚及连接两条外圈支撑脚的外圈支撑部，所述外圈支撑部远离两条外圈支撑脚的一侧包括呈平面的支撑面，所述支撑面包括相连的第一支撑面及第二支撑面，所述第一支撑面对应两条外圈支撑脚的中间区域设置，所述第二支撑面朝远离所述外圈加热丝的中心方向凸伸出所述第一支撑面，且所述外圈加热丝位于所述第一支撑面及所述第二支撑面上。

2.根据权利要求1所述的金属有机化合物化学气相沉积反应装置，其特征在于，所述载盘呈圆形，所述载盘的直径范围为480~500mm，所述外圈加热丝的外径范围为480~500mm。

3.根据权利要求1所述的金属有机化合物化学气相沉积反应装置，其特征在于，所述外圈支架一体成型，且两条外圈支撑脚及所述外圈支撑部位于同一平面内。

4.根据权利要求1所述的金属有机化合物化学气相沉积反应装置，其特征在于，所述第一支撑面及所述第二支撑面上任意一点至水平面的距离均相等。

5.根据权利要求1所述的金属有机化合物化学气相沉积反应装置，其特征在于，所述加热装置还包括基板、位于所述基板及所述加热丝组件之间的隔热组件及陶瓷基座，所述基板包括安装孔，所述隔热组件包括贯穿孔，所述陶瓷基座设置于所述贯穿孔及所述安装孔内，且所述陶瓷基座具有容纳腔，所述外圈支架的两条外圈支撑脚限位于所述容纳腔内。

6.根据权利要求5所述的金属有机化合物化学气相沉积反应装置，其特征在于，所述隔热组件包括若干叠置的隔热片，所述隔热组件的外径范围为480~500mm，所述基板的外径小于所述隔热组件的外径。

7.根据权利要求5所述的金属有机化合物化学气相沉积反应装置，其特征在于，所述加热装置还包括连接所述基板的支撑部，所述支撑部延伸至所述外圈加热丝的外侧缘处。

8.根据权利要求1所述的金属有机化合物化学气相沉积反应装置，其特征在于，所述金属有机化合物化学气相沉积反应装置还包括环绕所述加热装置设置的罩体，所述罩体的内径范围为480~500mm。

9.根据权利要求8所述的金属有机化合物化学气相沉积反应装置，其特征在于，所述金属有机化合物化学气相沉积反应装置还包括集灰环，所述罩体连接所述集灰环，所述集灰环上设置有若干排气孔。

10.根据权利要求1所述的金属有机化合物化学气相沉积反应装置，其特征在于，所述金属有机化合物化学气相沉积反应装置还包括呈中空环状的挡板，所述挡板的侧壁的上端面具有第一宽度，所述第一宽度的取值范围为16.9~26.9mm。