[发明专利]边缘曝光装置、方法、显示基板、显示装置有效

专利信息
申请号: 201910384249.X 申请日: 2019-05-09
公开(公告)号: CN110308619B 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: 李策;张文轩;蒋龙;尤飞;廖飞;张丛雷;徐哲 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;张博
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 边缘 曝光 装置 方法 显示 显示装置
【说明书】:

发明提供了一种边缘曝光装置、方法、显示基板、显示装置,属于显示技术领域。边缘曝光装置,包括:曝光光源,用于提供曝光光线,所述曝光光线为扩散光线;设置在所述曝光光源出光侧的光学调整组件,能够调整所述曝光光线的传播方向。通过本发明的技术方案,能够防止在柔性衬底的边缘出现膜层残留,保证显示装置的产品良率。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,特别是指一种边缘曝光装置、方法、显示基板、显示装置。

背景技术

目前,在制作柔性显示基板时,是在刚性载板上形成柔性衬底,在柔性衬底上制作显示器件,在显示器件制作完成后,将柔性衬底从刚性载板上剥离。在柔性显示基板的制作过程中,需要对刚性载板上涂覆的光阻层进行曝光,具体地,使用主曝光装置性显示基板的对显示区域的光阻层进行曝光,使用边缘曝光装置对柔性显示基板的外围区域的光阻层进行曝光,边缘曝光装置的曝光光线与光刻胶的高度方向所成角度接近0°,在柔性衬底的边缘,受柔性衬底的遮挡,柔性衬底边缘处的光刻胶接收的曝光光线比较少,边缘曝光装置的曝光光线对柔性衬底边缘处的光刻胶曝光不充分,导致柔性衬底边缘出现光刻胶残留,进而导致残留的光刻胶下方的膜层无法被刻蚀,导致柔性衬底边缘处出现膜层残留,影响后期柔性衬底与刚性载板上的剥离,降低了显示装置的产品良率。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种边缘曝光装置、方法、显示基板、显示装置,能够防止在柔性衬底的边缘出现膜层残留,保证显示装置的产品良率。

为解决上述技术问题,本发明的实施例提供技术方案如下:

一方面,提供一种边缘曝光装置,包括:

曝光光源,用于提供曝光光线,所述曝光光线为扩散光线;

设置在所述曝光光源出光侧的光学调整组件,能够调整所述曝光光线的传播方向。

进一步地,所述光学调整组件包括:

至少一个反射镜,所述反射镜的倾斜角度可调节;

控制机构,用于控制所述反射镜的倾斜角度。

进一步地,所述光学调整组件包括相互平行的第一反射镜和第二反射镜,所述第一反射镜的反光面朝向所述第二反射镜,所述第二反射镜的反光面朝向所述第一反射镜。

进一步地,所述反射镜的倾斜角度调节范围为±10°。

本发明实施例还提供了一种边缘曝光方法,包括:

将承载有柔性衬底的刚性载板放置在载台上,所述刚性基板和所述柔性衬底上涂覆有光阻层;

利用如上所述的边缘曝光装置对所述柔性衬底的边界所在区域的光阻层进行曝光,利用所述光学调整组件调整曝光光线的传播方向,使得所述曝光光线与所述光阻层的厚度方向所成的角度大于0°。

进一步地,所述边缘曝光方法包括:

通过所述控制机构控制所述反射镜的倾斜角度,使得经所述反射镜反射的曝光光线与所述光阻层的厚度方向所成的角度大于0°。

进一步地,包括:

控制所述反射镜的反光面与所述光阻层的厚度方向所成的角度不大于10°。

进一步地,包括:

控制所述曝光光源沿第一方向进行扫描曝光,完成所述柔性衬底沿第一方向延伸的边界所在区域的光阻层的曝光;

控制所述刚性载板旋转90°;

控制所述曝光光源沿第二方向进行扫描曝光,完成所述柔性衬底沿第二方向延伸的边界所在区域的光阻层的曝光,所述第二方向与所述第一方向垂直。

本发明实施例还提供了一种显示基板,采用如上所述的边缘曝光方法制作得到。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910384249.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top