[发明专利]显示面板及其制作方法以及显示装置有效

专利信息
申请号: 201910384366.6 申请日: 2019-05-09
公开(公告)号: CN110148631B 公开(公告)日: 2022-03-08
发明(设计)人: 何昆鹏;任章淳 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L21/336;H01L27/12
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 显示 面板 及其 制作方法 以及 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示面板,其特征在于,包括:

基板;

阳极层,所述阳极层设于所述基板上;

遮光层,所述遮光层设于所述阳极层上,所述遮光层的组成材料为不透明的导电材料;

薄膜晶体管层,所述薄膜晶体管层设于所述遮光层上,所述薄膜晶体管层包括源漏极层,所述源漏极层包括同层设置的源极和漏极,所述源漏极层与所述遮光层电性连接;

缓冲层,所述缓冲层设于所述遮光层与所述薄膜晶体管层之间;

其中,所述薄膜晶体管层还包括:

有源层;

栅极绝缘层,所述栅极绝缘层设于所述有源层上;

栅极层,所述栅极层设于所述栅极绝缘层上;

间绝缘层,所述间绝缘层设于所述缓冲层、所述栅极层以及所述有源层上,所述源漏极层设于所述间绝缘层上;

第二通孔,所述第二通孔设于所述间绝缘层和所述缓冲层上,所述第二通孔用于电性连接所述源漏极层和所述遮光层。

2.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述源漏极层与所述有源层电性连接,使得所述有源层与所述阳极层电性连接。

3.如权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括第一通孔,所述第一通孔设于所述间绝缘层上,所述第一通孔用于电性连接所述有源层和所述源漏极层,以及用于电性连接所述有源层的另一侧和所述源漏极层。

4.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括像素定义层,所述像素定义层设于所述间绝缘层以及所述源漏极层上。

5.如权利要求4所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括发光层,所述发光层设置在所述像素定义层的开口区内。

6.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括权利要求1至5任一项所述的显示面板。

7.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括:

提供一基板;

在所述基板上形成阳极膜;

在所述阳极膜上形成遮光膜;

在所述遮光膜上形成光阻层;

以所述光阻层为保护层,对所述遮光膜以及阳极膜进行刻蚀,形成阳极层以及遮光层,所述遮光层的组成材料为不透明的导电材料,其中,利用所述光阻层刻蚀所述遮光膜以得到所述遮光层,剩下的未被刻蚀的阳极膜即形成未所述阳极层;

剥离所述光阻层;

在所述遮光层的上表面形成缓冲层;

在所述缓冲层上形成薄膜晶体管层,所述薄膜晶体管层包括源漏极层,所述源漏极层与所述遮光层电性连接,所述薄膜晶体管层还包括有源层,设于所述有源层上的栅极绝缘层,设于所述栅极绝缘层上的栅极层,设于所述缓冲层、所述栅极层以及所述有源层上的间绝缘层,设于所述间绝缘层和所述缓冲层上的第二通孔,所述源漏极层设于所述间绝缘层上,所述源漏极层包括同层设置的源极和漏极,所述第二通孔用于电性连接所述源漏极层和所述遮光层。

8.如权利要求7所述显示面板的制作方法,其特征在于,所述在所述遮光层上形成薄膜晶体管层的步骤,包括:

在所述遮光层上形成所述有源层;

在所述有源层上形成栅极绝缘膜;

在所述栅极绝缘膜上形成栅极膜;

在所述栅极膜上形成光阻层;

以所述光阻层为保护层,对所述栅极膜进行刻蚀,形成所述栅极层;

以所述光阻层和所述栅极层为保护层,对所述栅极绝缘膜进行刻蚀,形成栅极绝缘层;

剥离所述光阻层;

在所述栅极层上形成所述间绝缘层;

在所述间绝缘层上形成所述源漏极层,得到所述薄膜晶体管层。

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