[发明专利]一种制备纳米晶的系统及方法

权利要求书

1.一种制备纳米晶的系统，其特征在于，包括：

合成装置，用于合成纳米晶原液，

以及与所述合成装置连接的纯化装置；

其中，所述纯化装置包括：

离心部；

析出部，与所述离心部连接，用于向离心部提供极性溶剂；

清洗部，与所述离心部连接，用于向离心部提供非极性溶剂。

2.根据权利要求1所述的制备纳米晶的系统，其特征在于，所述合成装置具有导出纳米晶原液的出液口，所述离心部上具有导入纳米晶原液的进液口，所述纳米晶原液的出液口与所述纳米晶原液的进液口通过第一导液部件连接。

3.根据权利要求2所述的制备纳米晶的系统，其特征在于，所述纳米晶原液的出液口位于所述合成装置的底部。

4.根据权利要求1所述的制备纳米晶的系统，其特征在于，所述离心部包括离心腔体，和与所述离心腔体固定连接的并驱动所述离心腔体旋转的旋转轴。

5.根据权利要求4所述的制备纳米晶的系统，其特征在于，所述离心腔体上设置有溶剂接口，所述析出部和所述清洗部通过第二导液部件连接至所述溶剂接口。

6.根据权利要求5所述的制备纳米晶的系统，其特征在于，所述溶剂接口位于所述离心部的顶部。

7.根据权利要求5所述的制备纳米晶的系统，其特征在于，所述溶剂接口包括第一溶剂接口和第二溶剂接口，所述析出部通过第一溶剂接口连接于所述离心腔体，所述清洗部通过第二溶剂接口连接于所述离心腔体。

8.根据权利要求1所述的制备纳米晶的系统，其特征在于，所述系统还包括增压设备，所述增压设备与所述合成装置、离心部、析出部或者清洗部连接，并且用于向所述合成装置、离心部、析出部或者清洗部导入大于环境压力的非反应性气体。

9.一种采用权利要求1中所述的系统制备纳米晶的方法，其特征在于，包括：

步骤1)、在合成装置中合成纳米晶原液，并且导入至离心部中；

步骤2)、通过析出部向离心部中导入极性溶剂，通过离心部提供的离心力，得到纳米晶沉淀和含有杂质的溶剂，将含有杂质的溶剂排出；

步骤3)、通过清洗部向离心部中导入非极性溶剂，得到溶解有纳米晶的非极性溶剂；

步骤4)、导出得到纯化后的纳米晶。

10.根据权利要求9中所述的方法，其特征在于，重复步骤2)和步骤3)至少一次。