[发明专利]阵列基板及其制作方法

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板具有显示区(91)及位于显示区(91)外侧的外围区(92)；所述阵列基板包括设于外围区(92)内的边缘色阻图案(32)及位于边缘色阻图案(32)上方的边缘隔垫物(42)；所述边缘色阻图案(32)包括块状部(321)及位于块状部(321)外侧的挡墙(322)。

2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括衬底基板(10)、设于衬底基板(10)上的薄膜晶体管阵列层(20)、设于薄膜晶体管阵列层(20)上的第一钝化层(60)、设于第一钝化层(60)上且位于显示区(91)内的显示区色阻图案(31)、覆盖显示区色阻图案(91)的第二钝化层(70)，所述边缘色阻图案(32)设于第一钝化层(60)上，所述第二钝化层(70)覆盖边缘色阻图案(32)，所述边缘隔垫物(42)设于第二钝化层(70)上。

3.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，还包括间隔设于第二钝化层(70)上且位于显示区(91)内的主隔垫物(41)及辅助隔垫物(43)；所述主隔垫物(41)及辅助隔垫物(43)均位于显示区色阻图案(31)上方；所述辅助隔垫物(43)的高度小于主隔垫物(41)及边缘隔垫物(42)的高度。

4.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述块状部(321)及挡墙(322)的材料相同或不同。

5.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述外围区(92)包括位于显示区(91)外侧且与显示区(91)间隔的胶框涂布区(921)及位于胶框涂布区(921)与显示区(91)之间的过渡区(922)，所述边缘色阻图案(32)及边缘隔垫物(42)均位于过渡区(922)内。

6.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述挡墙(322)为环状。

7.如权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述块状部(321)的横截面形状为正方形，所述挡墙(322)的横截面形状为矩形框。

8.如权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述块状部(321)的长宽均为105μm-110μm；所述挡墙(322)的内侧边缘与外侧边缘之间的距离为20μm-50μm；所述挡墙(322)的内侧边缘与块状部(321)的边缘之间的距离为10μm-20μm。

9.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括设于第二钝化层(70)上且位于显示区(91)内的像素电极(50)；所述第一钝化层(60)、显示区色阻图案(31)及第二钝化层(70)设有过孔(71)，所述像素电极(50)经过孔(71)与薄膜晶体管阵列层(20)接触。

10.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤S1、提供衬底基板(10)，在衬底基板(10)上制作薄膜晶体管阵列层(20)；

步骤S2、在薄膜晶体管阵列层(20)上形成第一钝化层(60)，在第一钝化层(60)上制作显示区色阻图案(31)及位于显示区色阻图案(31)外侧的边缘色阻图案(32)，在第一钝化层(60)、显示区色阻图案(31)及边缘色阻图案(32)上形成第二钝化层(70)；

所述边缘色阻图案(32)包括块状部(321)及位于块状部(321)外侧的挡墙(322)；

步骤S3、在第二钝化层(70)上形成隔垫物材料层(49)；对隔垫物材料层(49)进行图案化，形成位于显示区色阻图案(31)上方的主隔垫物(41)以及位于边缘色阻图案(32)上方的边缘隔垫物(42)。