[发明专利]基于电光效应的单片集成光学加速度计有效
申请号: | 201910391747.7 | 申请日: | 2019-05-13 |
公开(公告)号: | CN110133322B | 公开(公告)日: | 2020-08-25 |
发明(设计)人: | 佘玄;姚俊杰;陈侃;黄腾超;舒晓武 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | G01P15/093 | 分类号: | G01P15/093 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 林超 |
地址: | 310058 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 电光 效应 单片 集成 光学 加速度计 | ||
1.一种基于电光效应的单片集成光学加速度计,其特征在于:包括制冷片(14)、静电力反馈模块(13)、硅衬底(12)、二氧化硅缓冲层(11)、下电极(9)、铌酸锂单晶薄膜(10)、宽谱光源(1)、光电探测器(6)、上电极(5)和封装外壳(7);宽谱光源(1)、模斑转换器(2)、光电探测器(6)、上电极(5)、下电极(9)、铌酸锂单晶薄膜层(10)、二氧化硅缓冲层(11)、硅衬底(12)、静电力反馈模块(13)、制冷片(14)均位于封装外壳(7)内;
静电力反馈模块(13)位于制冷片(14)上表面,硅衬底(12)位于静电力反馈模块(13)上表面;硅衬底(12)中间刻蚀形成弹簧振子结构(8),弹簧振子结构(8)包括质量块(16)和两根微梁(15),质量块(16)位于硅衬底(12)中间位置且底部与制冷片(14)不接触,两根微梁(15)的一端对称布置于质量块(16)两侧,两根微梁(15)的另一端与未经刻蚀的硅衬底(12)相连;下电极(9)位于质量块(16)上表面;未经刻蚀的硅衬底(12)上表面覆盖有二氧化硅缓冲层(11);
二氧化硅缓冲层(11)上表面涂覆有铌酸锂单晶薄膜(10),铌酸锂单晶薄膜(10)上表面依次刻蚀形成模斑转换器(2)、1:2型Y波导(3)和2:1型Y波导(4);1:2型Y波导(3)和2:1型Y波导(4)共同构成马赫曾德干涉仪结构;模斑转换器(2)一端与1:2型Y波导(3)的合束端相连,1:2型Y波导(3)的两分支端分别与2:1型Y波导(4)的两分支端相连;铌酸锂单晶薄膜(10)两端分别布置有宽谱光源(1)和光电探测器(6),宽谱光源(1)与模斑转换器(2)另一端正对并接触,2:1型Y波导(4)的合束端正对光电探测器(6)的光敏面并接触;1:2型Y波导(3)与2:1型Y波导(4)其中一个分支的上端面布置有与下电极(9)位置相对的上电极(5);
铌酸锂单晶薄膜(10)下表面与下电极(9)不接触。
2.根据权利要求1所述的一种基于电光效应的单片集成光学加速度计,其特征在于:所述宽谱光源(1)的光通过模斑转换器(2)耦合进入1:2型Y波导(3)后被分为两束光,两束光经1:2型Y波导(3)的两分支端进入2:1型Y波导(4)的两分支端,最后经2:1型Y波导(4)的合束端耦合进入光电探测器(6)中。
3.根据权利要求1所述的一种基于电光效应的单片集成光学加速度计,其特征在于:所述宽谱光源(1)、模斑转换器(2)、马赫曾德干涉仪结构、光电探测器(6)沿光路方向依次布置。
4.根据权利要求1所述的一种基于电光效应的单片集成光学加速度计,其特征在于:所述弹簧振子结构(8)的两根微梁(15)和质量块(16)均采用硅材料构成,两根微梁(15)的尺寸相同,两根微梁(15)厚度均小于质量块(16)厚度。
5.根据权利要求1所述的一种基于电光效应的单片集成光学加速度计,其特征在于:所述弹簧振子结构(8)上方区域的二氧化硅缓冲层(11)通过氢氟酸去除后被挖空。
6.根据权利要求1所述的一种基于电光效应的单片集成光学加速度计,其特征在于:所述的宽谱光源(1)采用SLD光源或ASE光源,整体光路采用马赫曾德干涉仪的对称结构,两干涉臂等长。
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