[发明专利]低弹跳真空灭弧室触头结构有效

专利信息
申请号: 201910398123.8 申请日: 2019-05-14
公开(公告)号: CN110047696B 公开(公告)日: 2021-02-02
发明(设计)人: 耿英三;李元钊;王子寒;闫静;彭晶;邓云坤;王科;谭向宇;马仪;李昊;陈宇民 申请(专利权)人: 云南电网有限责任公司电力科学研究院
主分类号: H01H33/664 分类号: H01H33/664
代理公司: 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 代理人: 逯长明;许伟群
地址: 650217 云南省昆*** 国省代码: 云南;53
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摘要:
搜索关键词: 弹跳 真空 灭弧室触头 结构
【权利要求书】:

1.一种低弹跳真空灭弧室触头结构,其特征在于,包括触头片(1)、触头托盘(2)、线圈(3)、杯托(5)及导杆(6),其中,

所述线圈(3)的两端分别与所述触头托盘(2)、所述杯托(5)连接,所述触头托盘(2)的一端设有嵌入槽(7),所述触头片(1)嵌在所述嵌入槽(7)内;

所述杯托(5)的中心处设有环形凸起(9),所述触头托盘(2)与所述杯托(5)之间设有弹性柱(4),所述触头托盘(2)的另一端设有环形槽(8),所述弹性柱(4)的一端嵌在所述环形槽(8)内,所述弹性柱(4)的另一端与所述环形凸起(9)接触,用于在所述触头片(1)接触产生的反作用力下发生弹性形变;所述环形凸起(9)的顶面与所述弹性柱(4)的一端侧面相抵接;

所述导杆(6)与所述杯托(5)远离所述弹性柱(4)的一侧连接。

2.根据权利要求1所述的低弹跳真空灭弧室触头结构,其特征在于,所述触头托盘(2)的一端对称设有定位槽(10),所述线圈(3)嵌在所述定位槽(10)内。

3.根据权利要求1所述的低弹跳真空灭弧室触头结构,其特征在于,所述线圈(3)为横磁线圈或纵磁线圈。

4.根据权利要求1所述的低弹跳真空灭弧室触头结构,其特征在于,所述线圈(3)为杯状横磁线圈或杯状纵磁线圈。

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