[发明专利]光源切换复用单元同轴度调试系统及方法在审

专利信息
申请号: 201910398215.6 申请日: 2019-05-14
公开(公告)号: CN110109262A 公开(公告)日: 2019-08-09
发明(设计)人: 赵虎 申请(专利权)人: 北京东方锐镭科技有限公司
主分类号: G02B27/62 分类号: G02B27/62
代理公司: 北京天盾知识产权代理有限公司 11421 代理人: 张彩珍
地址: 100020 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 复用单元 光源切换 共用系统 多波长 离轴抛物面反射镜 调试系统 同轴度 光斑成像装置 超连续谱 出射光束 基准光源 激光光源 同轴度调节 反射光束 反射光源 焦点位置 聚焦光斑 快速调节 入射侧 中心轴 光源 入射 射出 汇聚 灵活
【权利要求书】:

1.一种光源切换复用单元同轴度调试系统,用于多波长共用系统同轴度调节,所述多波长共用系统包括光源切换复用单元,其特征在于,包括超连续谱激光光源、离轴抛物面反射镜、光斑成像装置;

所述超连续谱激光光源用于布置于多波长共用系统的光源入射侧,用于向所述光源切换复用单元提供基准光源,使所述基准光源入射通过所述多波长共用系统的中心轴,经所述光源切换复用单元后水平射出;

所述离轴抛物面反射镜布置于所述光源切换复用单元出射光束方向,用于接收并反射所述光源切换复用单元的出射光束;

所述光斑成像装置布置于所述离轴抛物面反射镜的焦点位置,用于将所述离轴抛物面反射镜的反射光束汇聚成聚焦光斑。

2.根据权利要求1所述的光源切换复用单元同轴度调试系统,其特征在于,还包括五维调整平台,所述五维调整平台与所述超连续谱激光光源的光源输出尾纤连接,用于对所述基准光源入射方向进行精确调节,以使入射光束与所述多波长共用系统的中心轴重合。

3.根据权利要求2所述的光源切换复用单元同轴度调试系统,其特征在于,所述五维调整平台通过对光源输出尾纤X、Y、Z三个方向,以及俯仰、偏摆方向进行调整,使入射光束与所述多波长共用系统的中心轴重合。

4.根据权利要求1所述的光源切换复用单元同轴度调试系统,其特征在于,所述离轴抛物面反射镜表面镀有金属铝反射膜,通过所述金属铝反射膜对0.45μm~20μm波长的激光光束进行反射。

5.根据权利要求4所述的光源切换复用单元同轴度调试系统,其特征在于,所述离轴抛物面反射镜的焦距为1m。

6.根据权利要求1所述的光源切换复用单元同轴度调试系统,其特征在于,所述光斑成像装置采用近红外或可见光波段CCD。

7.根据权利要求1至6任一项所述的光源切换复用单元同轴度调试系统,其特征在于,还包括光斑显示装置,所述光斑显示装置用于显示所述聚焦光斑相对空间位置,以供所述光源切换复用单元在多波长共用系统中进行同轴度调试。

8.一种光源切换复用单元同轴度调试方法,其特征在于,包括:

步骤一,通过超连续谱激光光源向光源切换复用单元提供基准光源,使所述基准光源入射通过多波长共用系统的中心轴,经光源切换复用单元后水平射出;

步骤二,通过离轴抛物面反射镜接收并反射光源切换复用单元的出射光束;

步骤三,通过布置于离轴抛物面反射镜焦点位置的光斑成像装置将所述离轴抛物面反射镜的反射光束汇聚成聚焦光斑;

步骤四,通过光斑显示装置显示所述聚焦光斑相对空间位置,以供光源切换复用单元在多波长共用系统中进行同轴度调试。

9.根据权利要求8所述的光源切换复用单元同轴度调试方法,其特征在于,所述步骤一包括:

通过五维调整平台调整光源输出尾纤X、Y、Z三个方向,以及俯仰、偏摆方向,使入射光束与多波长共用系统的中心轴重合。

10.根据权利要求8所述的光源切换复用单元同轴度调试方法,其特征在于,所述步骤四包括:

通过调节所述供光源切换复用单元每一路波长选择器件的方位俯仰,使每路反射光束焦点的空间位置重合,实现各路光束同轴输出。

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