[发明专利]一种均匀五元圆阵测向方法有效
申请号: | 201910398497.X | 申请日: | 2019-05-14 |
公开(公告)号: | CN110082709B | 公开(公告)日: | 2021-04-13 |
发明(设计)人: | 尤明懿;陆安南 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第三十六研究所 |
主分类号: | G01S3/14 | 分类号: | G01S3/14 |
代理公司: | 北京天达知识产权代理事务所(普通合伙) 11386 | 代理人: | 李明里;武悦 |
地址: | 314033 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 均匀 五元圆阵 测向 方法 | ||
1.一种均匀五元圆阵测向方法,其特征在于,包括;
根据均匀五元圆阵的多种基线结构及对应的加权矩阵,确定多种测向方法,采用每种测向方法分别进行测向得到多个测向结果;
判断所述多个测向结果是否存在错解模糊;如果存在,则不采信本次测向结果;如果不存在,则采信本次测向结果;
对采信的测向结果进行融合,得到最终测向结果;
均匀五元圆阵的基线结构包括:闭环短基线结构、中等基线结构、长基线结构、全基线结构和非闭环短基线结构;
所述测向结果包括方位角估计值和俯仰角估计值
其中,μ(ζ,η)=(μ1(ζ,η),...,μk(ζ,η),...,μN(ζ,η))T;k=1,…,N;N为基线结构中的基线总数;ζ,η分别为方位、俯仰角的变量;
为第k组基线的相位差;为含测量误差的相位差测量值;
W为加权矩阵。
2.根据权利要求1所述的均匀五元圆阵测向方法,其特征在于,根据基线结构的是否可逆,选择对应的加权矩阵W;为该基线结构的相位差测量误差方差,Cj是第j种基线结构的基线选择矩阵。
3.根据权利要求2所述的均匀五元圆阵测向方法,其特征在于,对于闭环短基线结构、长基线结构和全基线结构,加权矩阵W均选择为单位对角矩阵。
4.根据权利要求2所述的均匀五元圆阵测向方法,其特征在于,对于中等基线结构,加权矩阵W为单位对角矩阵,或者为W=Σ-1,
5.根据权利要求2所述的均匀五元圆阵测向方法,其特征在于,对于非闭环短基线结构,加权矩阵W为单位对角矩阵,或者为W=Σ-1,
6.根据权利要求2所述的均匀五元圆阵测向方法,其特征在于,根据下述判断条件判断多个测向方法的测向结果是否存在错解模糊:
其中,i,h为测向方法的序号,M为测向方法的数量;θth为角度阈值。
7.根据权利要求6所述的均匀五元圆阵测向方法,其特征在于,所述对采信的测向结果进行融合包括:
从采信的测向结果中选取L种测向方法的测向结果;
根据公式得到最终测向结果;
其中,l=1,...,L;为融合选取测向结果中第l个测向方法的测向结果。
8.根据权利要求7所述的均匀五元圆阵测向方法,其特征在于,所述L=5;选取的测向方法包括:对于闭环短基线结构、长基线结构和全基线结构,加权矩阵W为单位对角矩阵,构成的三种测向方法;
以及对于中等基线结构,选择加权矩阵W=Σ-1,构成的测向方法;
以及对于非闭环短基线结构,加权矩阵W=Σ-1,构成的测向方法。
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