[发明专利]用于通过调节体调节测量装置的方法、调节体以及用于调节调节体的方法

权利要求书

1.用于调节测量装置（20）的方法，所述测量装置（20）包括：干涉仪单元（22），其具有限定光轴（A）的第一干涉仪并具有物镜（25），具有测量轴线（M）的第一距离测量装置（30），以及布置在所述干涉仪单元（22）和所述光学距离测量装置（30）之间的支撑滑块（32），所述支撑滑块（32）能沿滑动轴线（S）移动，所述方法包括以下步骤：

- 将所述测量轴线（M）平行于所述滑动轴线（S）对齐，

- 将工件（21）定位在所述物镜（25）的焦点位于所述工件（21）的表面上的位置中并通过所述干涉仪单元（22）在工件（21）上发射球形波前（Ws），接收在所述工件（21）处反射的球形返回波前（Wr），通过使用所述球形返回波前（Wr）在所述干涉仪单元（22）中产生干涉图案，并使所述物镜（25）相对于所述光轴（A）倾斜，直到所述干涉图案指示所述物镜（26）与所述光轴（A）成直角定向，

- 提供布置在所述支撑滑块（32）处的调节体（40），所述调节体（40）具有正面（43）和与所述正面（43）相对的背面（44），其中，所述正面（43）面向所述干涉仪单元（22）并且所述背面（44）面向所述光学距离测量装置（30），其中，至少一个球形反射和/或衍射表面（54、55）存在于所述正面（43），以及定义顶点的后向反射器（42）存在于所述背面（44），其中，中心点线（G）延伸通过所述至少一个球形反射和/或衍射表面（54、55）的中心点（P1、P2）和所述顶点（47），

- 通过所述干涉仪单元（22）将球形波前（Ws）发射到所述至少一个球形反射和/或衍射表面（54、55）上，接收在所述至少一个球形反射或者衍射表面（54、55）处反射的球形返回波前（Wr），并通过使用所述球形返回波前（Wr）在所述干涉仪单元（22）中产生干涉图案，

- 在共焦位置（K1、K2）中在所述调节体（40）和所述干涉仪单元（22）的物镜（25）之间产生相对运动，在所述共焦位置（K1、K2）中，所述干涉图案指示所述球形反射和/或衍射表面（54、55）的法线和照射在该位置的所述球形波前（Ws）的法线为平行的。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，进行在所述调节体（40）和所述干涉仪单元（22）的所述物镜（25）之间的平行于所述滑动轴线（S）的相对运动，直到所述干涉图案的抛物线分量最小。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，进行所述干涉仪单元（22）的物镜（25）相对于所述滑动轴线（S）成直角的位移，直到所述干涉图案的线性分量最小。

4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，距离测量干涉仪（31）用作光学距离测量装置（30）。

5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述调节体（40）包括在正面具有不同半径（r1、r1）的第一球形反射和/或衍射表面（54）和第二球形反射和/或衍射表面（55），所述球形反射和/或衍射表面的中心点（P1、P2）位于共同的中心点线（G）上。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述调节体（40）在由所述第一球形反射和/或衍射表面（54）限定的第一共焦位置（K1）中通过所述支撑滑块（32）移动，沿着与所述滑动轴线（S）正交的至少一个方向（x，y）在所述第一共焦位置（K1）中位移，随后在由所述第二球形反射和/或衍射表面限定的第二共焦位置（K2）中移动并且绕与所述滑动轴线（S）正交的至少一个方向（x，y）在所述第二共焦位置（K2）中倾斜。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述第一共焦位置（K1）中的位移和/或所述第二共焦位置（K2）中的倾斜至少执行一次或者反复地重复几次，直到在所述第一共焦位置（K1）和所述第二共焦位置（K2）中的所述干涉仪单元（22）的干涉图案指示所述中心点线（G）平行于所述滑动轴线（S）对齐。