[发明专利]一种基于SBS的阴离子交换膜及其制备方法

权利要求书

1.一种基于SBS的阴离子交换膜，其特征在于，所述阴离子交换膜的化学结构通式为式（1）所示：

（1）；

式中，R₁，R₂，R₃为甲基，乙基，异丙基或苯基；

所述阴离子交换膜的制备方法步骤如下：

（a）将苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物（SBS）溶解于有机溶剂中，然后向反应体系中加入卤丙烯，以偶氮二异丁腈（AIBN）为引发剂，进行反应；

（b）将步骤（a）中的反应混合液滴加到醇类溶剂中析出聚合物，干燥，得到SBS的接枝物；

（c）将步骤（b）中得到的SBS的接枝物再溶解于有机溶剂中，将混合液倒入洁净的聚四氟乙烯模具内，通过溶液浇铸法干燥成膜；随后将膜浸泡于胺溶液中，得到卤素型聚合物电解质膜；

（d）将制得的卤素型聚合物电解质膜浸泡于碱性溶液中进行离子交换，用去离子水冲洗去除膜表面残留的碱液，得到OH^-型阴离子交换膜。

2.如权利要求1所述的基于SBS的阴离子交换膜，其特征在于，步骤（a）所述有机溶剂为二氯甲烷或四氢呋喃。

3.如权利要求1所述的基于SBS的阴离子交换膜，其特征在于，步骤（a）所述SBS中双键的摩尔量与卤丙烯的摩尔量之比为1:1-1:3；AIBN的用量为SBS和卤丙烯质量之和的1%。

4.如权利要求1所述的基于SBS的阴离子交换膜，其特征在于，步骤（a）所述反应温度为40-60℃，反应时间为24-36小时。

5.如权利要求1所述的基于SBS的阴离子交换膜，其特征在于，步骤（b）所述醇类溶剂为甲醇或乙醇。

6.如权利要求1所述的基于SBS的阴离子交换膜的制备方法，其特征在于，步骤（c）所述有机溶剂为二氯甲烷、四氢呋喃或氯苯；干燥温度为40-80℃；胺溶液为：三甲胺水溶液、三已胺水溶液、N,N-二甲基苯胺水溶液、二甲基异丙胺水溶液。

7.如权利要求1所述的基于SBS的阴离子交换膜，其特征在于，步骤（d）所述碱性溶液为60℃ 1 M KOH或NaOH。