[发明专利]同时具有给体和受体基团的高分子共价修饰的石墨烯材料及其制法和应用

权利要求书

1.同时具有给体和受体基团的高分子共价修饰的石墨烯材料，其特征在于，结构式如下式复合材料RGO-PDQ所示：

R为高分子PDQ，n约为21。

2.根据权利要求1所述同时具有给体和受体基团的高分子共价修饰的石墨烯材料，其特征在于，所述同时具有给体和受体基团的高分子PDQ，其结构式如下式：

其中n约为21。

3.一种权利要求1所述同时具有给体和受体基团的高分子共价修饰的石墨烯材料的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

1)将三苯胺、N-溴代琥珀酰亚胺加入到四氯化碳溶液中回流反应，分离提纯得到化合物1；化合物1的分子式如下：

2)将溴化锂和溴化亚铜加入到四氢呋喃中预混合，然后在冰浴条件下滴加格氏试剂和化合物1的四氢呋喃溶液，待搅拌均匀后再滴加草酰氯，反应一段时间后用饱和氯化铵溶液淬灭反应，分离提纯得到化合物2；化合物2的分子式如下:

3)将1，2-二氨基苯、氯化亚砜和三乙胺加入到二氯甲烷中反应，分离提纯得到化合物3；化合物3的分子式如下：

4)化合物3溶解在HBr溶液中，然后在冰浴条件下滴加溶解有Br₂的HBr溶液反应，分离提纯得到化合物4；化合物4的分子式如下：

5)在冰浴条件下，化合物4溶解在乙醇中，缓慢滴加NaBH₄，反应得到化合物5；化合物5的分子式如下：

6)在N₂氛围下，将化合物2，化合物5加入乙酸中反应，分离提纯得到化合物6；化合物6的分子式如下：

7)在冰浴条件下，将还原氧化石墨烯(RGO)，4-溴苯二氮铵四氟硼酸盐加入到乙腈溶剂中反应，分离提纯得到化合物RGBr；化合物RGBr的分子式如下：

8)将RGBr、化合物6、碘化亚铜、三乙胺、1,4-二炔基苯和催化剂四三苯基磷钯加入到DMF溶剂中反应，分离提纯得到复合材料RGO-PDQ。

4.根据权利要求3所述同时具有给体和受体基团的高分子共价修饰的石墨烯材料的制备方法，其特征在于，GO和高分子PDQ质量比约为1：10。

5.一种同时具有给体和受体基团的高分子PDQ，其结构式如下式：

其中n约为21。

6.一种权利要求5所述同时具有给体和受体基团的高分子PDQ的制备方法，其特征在于包括如下步骤：

1)将三苯胺、N-溴代琥珀酰亚胺加入到四氯化碳溶液中回流反应，分离提纯得到化合物1；化合物1的分子式如下：

2)将溴化锂和溴化亚铜加入到四氢呋喃中预混合，然后在冰浴条件下滴加格氏试剂和化合物1的四氢呋喃溶液，待搅拌均匀后再滴加草酰氯，反应一段时间后用饱和氯化铵溶液淬灭反应，分离提纯得到化合物2；化合物2的分子式如下:

3)将1，2-二氨基苯、氯化亚砜和三乙胺加入到二氯甲烷中反应，分离提纯得到化合物3；化合物3的分子式如下：

4)化合物3溶解在HBr溶液中，然后在冰浴条件下滴加溶解有Br₂的HBr溶液反应，分离提纯得到化合物4；化合物4的分子式如下：

5)在冰浴条件下，化合物4溶解在乙醇中，缓慢滴加NaBH₄，反应得到化合物5；化合物5的分子式如下：

6)在N₂氛围下，将化合物2，化合物5加入乙酸中反应，分离提纯得到化合物6；化合物6的分子式如下：

7)化合物6、碘化亚铜、三乙胺、1,4-二炔基苯和催化剂四三苯基磷钯加入到DMF溶剂中反应，分离提纯得到高分子PDQ，高分子PDQ的分子式如下：

其中n约为21。

7.一种权利要求1所述同时具有给体和受体基团的高分子共价修饰的石墨烯材料在存储器件方面的应用。

8.一种基于石墨烯材料构造三态阻变存储器件，所述石墨烯材料为权利要求1-2任一项所述同时具有给体和受体基团的高分子共价修饰的石墨烯材料，所述器件由底电极，基于高分子修饰石墨烯材料的活性层以及顶点极构成，其中高分子具有给体和受体两种类型基团。