[发明专利]改善光学胶保护膜难撕离的浅刀痕刀模

说明书

一种改善光学胶保护膜难撕离的浅刀痕刀模，包括有：一裁切光学胶膜(OCA)之刀模；该刀模设一框形刀片，该框形刀片在对应一光学胶膜之重离型层之撕膜起始角位置处设有刀刃较其他区域刀刃高之浅刀痕区域；藉此，经该刀模裁切后之光学胶膜，该重离型层之撕膜起始角位置处，产生之刀痕会较浅，令在该撕膜起始角位置处之该光学胶膜的光学胶层溢进刀痕中之情况大幅减少，使该撕膜起始角位置处溢胶沾黏之情况会明显减弱，进而由该撕膜起始角位置处进行撕离该重离型层时，不良率大幅度降低。

技术领域

本发明系一种改善光学胶保护膜难撕离的浅刀痕刀模，尤指一种在撕膜起始角位置具有 浅刀痕设计，达到降低撕膜的不良率。

背景技术

按，一般习知之光学胶膜(OCA)结构，请参阅第1图所示，其系包含有：一光学胶层11、 一重离型层12以及一轻离型层13，该光学胶层11设有相对之上表面111、下表面112，而该重离型层12系覆盖于该光学胶层11之上表面111，该轻离型层13则覆盖于该光学胶层11之下表面112，令可由轻离型层13处方便进行撕除即可进行压合使用。

然而，光学胶膜之撕膜(撕离该重离型层12)失效的问题在各类制程中均有出现过或一直 存在(重离型层12因离型力相较轻离型层13更大，撕离难度会更高)，请参阅图2、图3、 图4所示，其主要原因是，为保证光学胶膜制造时在裁切过程中可被裁断，该重离型层12上 会因裁切而留下一圈刀痕线121(如图2所示)，令光学胶膜之光学胶层11的边缘有较大可能 性溢进该重离型层12之刀痕122中(如第3图所示)，导致该重离型层12之撕膜起始位置， 亦有光学胶层11溢进该重离型层12之刀痕122中(如图3所示)，而造成撕离该重离型层12 时，该重离型层12对抗剥离的阻力会增大(即该光学胶膜黏贴于一吸附于一真空吸附平台21 之处理器22上，进行撕离该重离型层12时，该重离型层12对抗剥离的阻力会增大)，而增 加撕膜失效的风险(如图4所示)。

由此可见，上述习用物品仍有诸多缺失，实非一良善之设计者，而亟待加以改良。

发明内容

有鉴于此，本案发明人本于多年从事相关产品之制造开发与设计经验，针对上述之目标， 详加设计与审慎评估后，终得一确具实用性之本发明。

本发明之目的，在提供一种改善光学胶保护膜难撕离的浅刀痕刀模，系在撕膜起始角位 置具有浅刀痕设计，达到降低撕膜的不良率。

根据上述之目的，本发明之改善光学胶保护膜难撕离的浅刀痕刀模，其主要系包括有： 一裁切光学胶膜(OCA)之刀模；其中，该刀模设有一近矩形之框形刀片，该框形刀片具有一刀 身，该刀身前端具有一刀刃，该框形刀片在对应一光学胶膜之重离型层之撕膜起始角位置处 设有刀刃较其他区域刀刃高之浅刀痕区域；藉此，经该刀模裁切后之光学胶膜，该光学胶膜 之重离型层之撕膜起始角位置处，产生之刀痕会较浅(几乎消失不可见)，令在该撕膜起始角 位置处之该光学胶膜的光学胶层溢进刀痕中之情况大幅减少，使该撕膜起始角位置处溢胶沾 黏之情况会明显减弱，如此，由该撕膜起始角位置处进行撕离该重离型层时，不良率大幅度 降低，达到降低撕膜不良率的目的。

为便贵审查委员能对本发明之目的、形状、构造装置特征及其功效，做更进一步之认识 与了解，兹举实施例配合图式，详细说明如下：

附图说明

图1为现有技术之光学胶膜之外观示意图。

图2为现有技术之光学胶膜之正面示意图。

图3为现有技术之光学胶膜之部分剖面图。

图4为现有技术之光学胶膜进行撕膜之示意图。

图5为本发明刀模之外观示意图。

图6为本发明在重离型层产生浅刀痕之示意图。

图7为现有技术之撕膜角未做浅刀痕处理的光学胶膜(OCA)撕重膜(重离型层)剥离力之 实验数据图。