[发明专利]一种光敏树脂陶瓷及其立体光固化制备方法

说明书

本发明涉及3D打印技术领域，尤其涉及一种光敏树脂陶瓷及其立体光固化制备方法。本发明提供了一种光敏树脂陶瓷的立体光固化成型制备方法，包括以下步骤：步骤1：将乙烯基聚硅氮烷和活性稀释剂混合得到混合溶液；步骤2：将光引发剂和自由基清除剂加入所述混合溶液中得到陶瓷前驱体混合溶液；步骤3：将所述陶瓷前驱体混合溶液进行光固化成型得到光敏树脂陶瓷。本发明还提供了由上述制备方法制得的光敏树脂陶瓷。本发明提供了一种光敏树脂陶瓷及其立体光固化制备方法，解决了现有的制备方法陶瓷产率较低的技术问题。

技术领域

本发明涉及3D打印技术领域，尤其涉及一种光敏树脂陶瓷及其立体光固化制备方法。

背景技术

立体光固化成型技术是增材制造技术的一种方法，其是一种间接的增材制造技术，传统的光固化成型技术采用由点-线-面的成型方式，其采用激光发射出紫外线，然后用镜片来反射激光，通过改变镜片的偏角就可以实现成型，采用这种方式成型效率较为低下，为提高打印机的效率数字光处理打印机应运而生，其改变了传统的成型方式，直接采用面成型，每一层都采用单一图层曝光，因此可以实现更快的构建速度,当前陶瓷光固化立体成型方式主要两种，分别是陶瓷粉体和树脂混合体系和陶瓷前驱体溶液混合体系，后者与前者相比具有以下优点，陶瓷前驱体溶液混合体系因为没有陶瓷颗粒存在，折射率和反射率较小，对成型效果相对来说更好，此外，陶瓷前驱体体系经过烧结可以产生三元或者多元混合物。

现今大多数陶瓷前驱体溶液体系主要采用的是聚硅氧烷体系，但聚硅氧烷陶瓷产率较低，因此，现有的制备方法陶瓷产率较低成为了本领域技术人员亟待解决的技术问题。

发明内容

本发明提供了一种光敏树脂陶瓷及其立体光固化制备方法，解决了现有的制备方法陶瓷产率较低的技术问题。

本发明提供了一种光敏树脂陶瓷的立体光固化成型制备方法，包括以下步骤：

步骤1：将乙烯基聚硅氮烷和活性稀释剂混合得到混合溶液；

步骤2：将光引发剂和自由基清除剂加入所述混合溶液中得到陶瓷前驱体混合溶液；

步骤3：将所述陶瓷前驱体混合溶液进行光固化成型得到光敏树脂陶瓷。

优选的，所述乙烯基聚硅氮烷、活性稀释剂、自由基清除剂和光引发剂的质量比为(10～60):(10～50):(0.1～5):(0.2～10)。

优选的，所述乙烯基聚硅氮烷包括1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氮烷和/或疏基-乙烯基硅氮烷。

优选的，所述活性稀释剂为丙烯酸酯。

优选的，所述丙烯酸酯包括聚乙二醇二丙烯酸酯、己二醇双丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯中一种或多种。

优选的，步骤1中所述混合具体包括搅拌混合；所述搅拌的时间为15～ 40min。

优选的，所述搅拌的转速为800～1000rpm。

优选的，所述光引发剂包括光引发剂184D、1-羟环己基苯酮、苯基双 (2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦、2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦中的一种或多种。

优选的，所述自由基清除剂为1,3,5-三甲基-2,4,6-三(3,5-二叔丁基-4-羟基苄基)苯和/或三[2.4-二叔丁基苯基]亚磷酸酯。

本发明还提供了一种光敏树脂陶瓷，由上述的制备方法制得。

本发明具有如下有益效果：

(1)本发明提供了一种新的陶瓷前驱体光固化成型溶液体系，相比聚硅氧烷体系，具有较高的陶瓷产率。